| 主权项 |
1.一种选自下列式VII至X群基之正光阻剂共聚物,其中R1和R2互不相关的分别是氢或甲基,及x和y互不相关的分别是0.05及0.9间的莫耳分数;其中R1和R2互不相关的分别是氢或甲基,及x和y互不相关的分别是0.05及0.9间的莫耳分数;其中R1,R2和R3互不相关的分别为氢或甲基,x代表一0.005和0.9间的莫耳分数,及y和z互不相关的分别代表0.001和0.9间的莫耳分数;其中R1,R2和R3互不相关的分别为氢或甲基,x代表一0.005和0.9间的莫耳分数,及y和z互不相关的分别代表0.001和0.9间的莫耳分数。2.如申请专利范围第1项之正光阻剂共聚物,其是选自包含下列化合物之群基:聚[5-(叔-丁氧基羰基)-胆烷-24-基-3-(甲)丙烯酸酯/5-胆-24-酸基-3-(甲)丙烯酸酯],聚[5-(四氢喃基)-胆烷-24-基-3-(甲)丙烯酸酯/5-胆-24-酸基-3-(甲)丙烯酸酯],聚[5-(四氢喃基)-胆烷-24-基-3-(甲)丙烯酸酯/5-胆-24-酸基-3-(甲)丙烯酸酯/2-羟基乙基(甲)丙烯酸酯],及聚[5-(2-乙氧基乙基)-胆烷-24-基-3-(甲)丙烯酸酯/5-胆-24-酸基-3-(甲)丙烯酸酯/2-羟基乙基(甲)丙烯酸酯]。3.一种光阻剂组成物,包括一如申请专利范围第2项之共聚物,一从200至1000wt%(依据光阻剂聚合物的重量计算)之有机溶剂,及一从0.05至10wt%(依据光阻剂聚合物的重量计算)的光酸产生剂,其中该共聚物含有一式II的单体:其中R1是氢,叔-丁基,四氢喃基或2-乙氧基乙基;R2是氢或甲基。4.如申请专利范围第3项之光阻剂组成物,其中该有机溶剂是一选自下列组成之化合物或化合物混合物:甲基3-甲氧基丙酸酯,乙基3-乙氧基丙酸酯,丙二醇甲基醚乙酸酯,及环己酮。5.如申请专利范围第3项之光阻剂组成物,其中该光酸产生剂是一选自下列组成之化合物或化合物混合物:二苯基碘六氟磷酸盐,二苯基碘六氟砷酸盐,二苯基碘六氟锑酸盐,二苯基p-甲氧基苯基三氟甲烷磺酸盐,二苯基p-甲苯基三氟甲烷磺酸盐,三苯基六氟磷酸,三苯基六氟砷酸,三苯基六氟锑酸,三苯基三氟甲烷磺酸,二丁基基三氟甲烷磺酸或类似物。6.一种形成光阻剂图像的方法,包括下列步骤:(a)将如申请专利范围第3项之光阻剂组成物涂覆在一晶元表面;(b)以一KrF光源曝光此晶元;(c)以一显像剂显像,而获得一成型图像;其中在步骤(b)曝光之前或之后施与烘焙步骤,烘焙温度为70至200℃之间。 |
