发明名称 铁氧体音频磁头光亮镀镍工艺
摘要 一种涉及铁氧体音频磁头光亮镀镍工艺,包括依次由化学粗化、敏化、活化、中和、碱性化学镀镍、光亮电镀镍的铁氧体音频磁头表面处理工艺路线以及铁氧体音频磁头表面金属工艺化方法,即化学粗化的溶液组成与工艺条件:三氧化二铬10~30g/L,98%的硫酸20~40ml/L,40%的氢氟酸20~40ml/L,粗化溶液温度为室温,时间为30~60s;敏化:氯化亚锡10~20g/L,37%的盐酸20~30ml/L,敏化溶液温度为室温,时间5~10min;活化:氯化钯0.1~0.3g/L,酒石酸钾2~4g/L,37%的盐酸0.2~0.8ml/L,活化溶液温度为室温,时间5~10min;碱性化学镀镍:硫酸镍20~30g/L,次亚磷酸钠20~30g/L,酒石酸钠15~25g/L,氯化铵25~35g/L,氟化氢铵6~10g/L,pH值8.5~9.5,电镀温度50~70℃,时间20~30min,添加剂为十二烷基硫酸钠0.05~0.15g/L;糖精0.5~2g/L。
申请公布号 CN1473960A 申请公布日期 2004.02.11
申请号 CN03131728.6 申请日期 2003.07.24
申请人 南京航空航天大学 发明人 何建平;韩祚祥;王玲
分类号 C23C28/02;C23C18/18;C23C18/36;C25D9/04 主分类号 C23C28/02
代理机构 南京众联专利代理有限公司 代理人 谢振龙
主权项 1、一种铁氧体音频磁头光亮镀镍工艺,其特征在于包括依次由化学粗化、敏化、活化、中和后再进行碱性化学镀镍,最后进行光亮电镀镍的铁氧体音频磁头表面处理工艺路线以及铁氧体音频磁头表面金属工艺化方法,即:(1)化学粗化的溶液组成与工艺条件是:三氧化二铬10~30g/L,98%的硫酸20~40ml/L,40%的氢氟酸20~40ml/L;粗化溶液温度为室温;时间为30~60s。(2)敏化的溶液组成与工艺条件:氯化亚锡10~20g/L,37%的盐酸20~30ml/L;敏化溶液温度为室温;时间5~10min。(3)活化的溶液组成与工艺条件:氯化钯0.1~0.3g/L,酒石酸钾2~4g/L,37%的盐酸0.2~0.8ml/L;活化溶液温度为室温;时间5~10min。(4)碱性化学镀镍的溶液组成与工艺条件:硫酸镍20~30g/L,次亚磷酸钠20~30g/L,酒石酸钠15~25g/L,氯化铵25~35g/L,氟化氢铵6~10g/L;pH值8.5~9.5;溶液温度50~70℃;时间20~30min;添加剂为十二烷基硫酸钠0.05-0.15g/l;糖精0.5-2.0g/l。
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