利用光刻技术和汽相沉积技术制作薄膜热电偶

摘要

利用光刻技术和汽相沉积技术制作薄膜热电偶，其特征是用光刻技术和汽相沉积技术制作的NiCr和NiSi两种不同材质的微米级薄膜热电偶。根据被测物体的实际需要，设计薄膜电偶位置、大小和形状。该薄膜电偶体积小、重量轻，并且有响应时间短、使用寿命长等优点，将在微电子技术和航空航天技术中得到广泛应用。

主权项

1、利用光刻技术和汽相沉积技术制作薄膜热电偶的方法，其特征在于本发明的具体方法如下：第1步.根据被测温物体的具体情况设计制作热电偶的位置、形状、大小，并完成设计图纸；第2步.根据图纸设计制作母板；第3步.在准备制作热电偶的位置上利用物理气相沉积技术预镀导热绝缘层SiO2；第4步.在导热绝缘层上涂上光刻胶利用光刻技术制作掩膜；第5步.利用磁控溅射镀制热电偶的一种材料NiCr；第6步.重复第4步和第5步制作热电偶的NiSi材料并使两种材料有一个结合点，从而形成一对热电偶；第7步.利用物理气相沉积或化学汽相沉积技术镀制Al2O3金属氧化物作为保护涂层；通过上述方法即可制得几何尺寸为微米级的薄膜热电偶。