Vapour phase deposition of silicate and oxide films,申请号GB20030018390-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Vapour phase deposition of silicate and oxide films
摘要
申请公布号	GB2391555(A)	申请公布日期	2004.02.11
申请号	GB20030018390	申请日期	2003.08.06
申请人	* EPICHEM LIMITED	发明人	ANTHONY COPELAND * JONES
分类号	C23C16/40;(IPC1-7):C23C16/30;C23C16/44	主分类号	C23C16/40
代理机构		代理人
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