PHOTORESIST COMPOSITION FOR DEEP ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY,申请号EP20020737995-传众专利搜索

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发明名称	PHOTORESIST COMPOSITION FOR DEEP ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY
摘要
申请公布号	EP1388027(A1)	申请公布日期	2004.02.11
申请号	EP20020737995	申请日期	2002.04.25
申请人	CLARIANT INTERNATIONAL LTD.	发明人	DAMMEL, RALPH, R.;SAKAMURI, RAJ
分类号	C08F220/42;C08F232/00;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039	主分类号	C08F220/42
代理机构		代理人
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