| 发明名称 |
METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND ATOMIC LAYER DEPOSITION OF METAL OXYNITRIDE AND METAL SILICON OXYNITRIDE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003249254(A1) |
申请公布日期 |
2004.02.09 |
| 申请号 |
AU20030249254 |
申请日期 |
2003.07.16 |
| 申请人 |
ASML US, INC. |
发明人 |
YOSHIHIDE SENZAKI;SANG-IN LEE |
| 分类号 |
H01L27/04;C23C16/30;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/822;H01L21/8242;H01L27/108;H01L35/24 |
主分类号 |
H01L27/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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