Optisches System mit einer Strahlungsquelle für elektromagnetische Strahlung im extremen ultravioletten Bereich und einem reflektierenden Element

摘要

Die Erfindung betrifft ein optisches System mit einer Strahlungsquelle für elektromagnetische Strahlung im extremen ultravioletten Bereich und einem reflektierenden Element. Sie kann besonders vorteilhaft für lithographische Anwendungen bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen eingesetzt werden. Mit der Erfindung soll die Aufgabe gelöst werden, ein kostengünstiges herstellbares optisches System zur Verfügung zu stellen, das auch eine höhere maximale Reflektivität erreichen kann. Dabei sind auf einem Substrat ein Multischichtsystem mit alternierend angeordneten Schichten aus Mo und Si, als Schichtpaare ausgebildet. Die jeweilige elektromagnetische Strahlung wird unter einem Winkel auf die Oberfläche des Multischichtsystems gerichtet, wobei die Dicke d der Schichtpaare bei der jeweiligen Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung die Braggsche Gleichung erfüllen. Zumindest innerhalb des Multischichtsystems tritt ein stehendes elektrisches Feld auf. Erfingungsgemäß sind die Dicken d¶mo¶ und d¶si¶ der Schichten so gewählt, dass die Konoten des elektrischen Wellenfeldes jeweils unmittelbar an Grenzflächen zwischen solchen Einzelschichten und/oder die Wellenbäuche vor oder nach solchen Grenzflächen angeordnet sind.