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发明名称 LASER SPECTRAL ENGINEERING FOR LITHOGRAPHIC PROCESS
摘要
申请公布号 EP1386376(A1) 申请公布日期 2004.02.04
申请号 EP20020731433 申请日期 2002.04.19
申请人 CYMER, INC. 发明人 KROYAN, ARMEN;LALOVIC, IVAN;FOMENKOV, IGOR;DAS, PALASH, P.;SANDSTROM, RICHARD, L.;ALGOTS, JOHN, M.;AHMED, KHURSHID
分类号 G03F7/207;H01S3/10;G03F7/20;H01L21/027;H01S3/036;H01S3/038;H01S3/04;H01S3/041;H01S3/08;H01S3/097;H01S3/0971;H01S3/0975;H01S3/102;H01S3/104;H01S3/105;H01S3/1055;H01S3/11;H01S3/13;H01S3/134;H01S3/137;H01S3/139;H01S3/22;H01S3/223;H01S3/225;(IPC1-7):H01S3/10 主分类号 G03F7/207
代理机构 代理人
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