测试光掩模、光斑评估方法以及光斑补偿方法

摘要

通过使用一个线图案以及一个带状图案，前者成为待测试的图案，后者成为一个光斑引起图案，它形成一个环绕着线图案的透光区域，并且令局部光斑出现在线图案之上，由于带状图案在线图案上生成的局部光斑的影响被测量为用于评估的线图案上的线宽。此外，这个测量数值被用来补偿局部光斑对每一个真实图案的影响。

主权项

1.一种光斑评估方法，用于测量在制造半导体器件的过程中所使用的一个校准器中的光斑，包括下列步骤：通过使用具有待测试的图案的一个测试掩模单元以及多个光斑引起图案，前者成为对在其上的所述光斑进行评估的一个对象，后者形成各透光区域使得在待测试的所述图案上产生局部光斑，并且与待测试的所述图案之间具有不同的距离，针对每一个所述光斑引起图案，根据其与所述距离的关系，将所述光斑对所述待测试的图案的影响量化为所述待测试的图案的每一个测量值。