发明名称 |
用于第Ⅲ族氮化物化合物半导体器件的n-电极 |
摘要 |
本发明的目的在于使n-电极和由第III族氮化物化合物半导体形成的n-型层之间的电阻极大地减少。根据本发明,n-电极是由下列电极材料形成的:第一电极材料,由至少一种选自钒(V)、钛(Ti)、锆(Zr)、和钨(W)的金属构成;第二电极材料,由至少一种选自钯(Pd)、铂(Pt)、金(Au)、银(Ag)和铜(Cu)的金属构成;和第三电极材料,由至少一种选自铝(Al)、硅(Si)和锗(Ge)的金属构成。 |
申请公布号 |
CN1473356A |
申请公布日期 |
2004.02.04 |
申请号 |
CN02802830.9 |
申请日期 |
2002.09.02 |
申请人 |
丰田合成株式会社 |
发明人 |
村井俊介;村上正纪;小出康夫;柴田直树 |
分类号 |
H01L21/28;H01L29/80;H01L33/00 |
主分类号 |
H01L21/28 |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
柳春琦 |
主权项 |
1.一种用于第III族氮化物化合物半导体器件的n-电极,其包含:第一电极材料,由至少一种选自钒、钛、锆和钨的金属构成;第二电极材料,由至少一种选自钯、铂、金、银和铜的金属构成;第三电极材料,由至少一种选自铝、硅和锗的金属构成。 |
地址 |
日本国爱知县 |