| 发明名称 | 用于蒸发的掩模，包括该掩模的掩模框架组件，及其制造方法 | ||
| 摘要 | 用于蒸发的掩模框架组件，包括掩模和支撑掩模的框架。掩模包括有一层预定图形的金属层，和为提高预定图形精度和掩模表面粗糙度形成在金属层表面上的一层涂层。 | ||
| 申请公布号 | CN1472598A | 申请公布日期 | 2004.02.04 |
| 申请号 | CN03145465.8 | 申请日期 | 2003.05.31 |
| 申请人 | 三星日本电气移动显示株式会社 | 发明人 | 姜敞晧;金兑承 |
| 分类号 | G03F1/08;H05B33/00 | 主分类号 | G03F1/08 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京;黄力行 |
| 主权项 | 1.一种用于蒸发的掩模，包括：具有预定图形的一层金属层：和形成在金属层表面上以提高预定图形精度和掩模的表面粗糙度的一层涂层。 | ||
| 地址 | 韩国蔚山广域市 | ||