发明名称 COMPOSITIONS AND METHOD FOR REMOVING PHOTORESIST AND/OR RESIST RESIDUE AT PRESSURES RANGING FROM AMBIENT TO SUPERCRITICAL
摘要
申请公布号 AU2003253961(A1) 申请公布日期 2004.02.02
申请号 AU20030253961 申请日期 2003.07.17
申请人 SCP GLOBAL TECHNOLOGIES, INC. 发明人 AKSHEY SEGHAL
分类号 G03F7/42;(IPC1-7):G03F7/00 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人
主权项
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