| 主权项 |
1.一种聚醯胺组成物,包含a.20-60重量%熔点至少约为280℃的聚醯胺,b.1-20重量%的熔点低于230℃的热塑性聚合物,c.5-30重量%的含卤素之有机化合物,此化合物在300℃下受热10分钟后会产生至多为200ppm的无机氯及至多为350ppm的无机溴,d.0-15重量%的一种能帮助(c)之耐燃活性的化合物,e.5-50重量%的无机增强剂,f.0-2重量%的其它添加剂,且其中(a)至(f)的总和至多100重量%。2.如申请专利范围第1项的聚醯胺组成物,其中含卤素之有机化合物(c)在300℃下受热10分钟后会产生至多为50ppm的无机氯。3.如申请专利范围第1项的聚醯胺组成物,其中该高熔点聚醯胺(a)系选自如下之群体:重覆的小单元位在衍生自脂族的,环脂族的或芳香族的二胺类及脂族的,环脂族的或芳香族的二羧酸的主链上重覆建构而成的聚醯胺,由内醯胺经环开口所得到的聚醯胺,前述之组合。4.如申请专利范围第3项的聚醯胺组成物,其中该高熔点聚醯胺(a)系选自如下之群体:脂族的均聚醯胺类脂族的一环脂族的共聚醯胺类脂族的-芳香族的共聚醯胺类。5.如申请专利范围第1至4项中之任一项的聚醯胺组成物,其中该高熔点聚醯胺之熔点系介于280至320℃之间。6.如申请专利范围第1至4项中之任一项的聚醯胺组成物,其中该聚合物(b)系分散于聚醯胺(a)中,聚合物(b)之颗粒中至少有90%其平均横切面小于3m。7.如申请专利范围第1至4项中之任一项的聚醯胺组成物,其中聚合物(b)系选自如下之群体:聚酯类,共聚酯类及聚醯胺类。8.如申请专利范围第7项之聚醯胺组成物,其中该聚醯胺(b)是一种脂族的聚醯胺,在此聚醯胺中之链上的脂族碳原子数对醯胺基团数的比例至少为6。9.如申请专利范围第1至4项中之任一项的聚醯胺组成物,其中该化合物(c)系选自由含卤素之聚合物所组成的群体。10.如申请专利范围第9项的聚醯胺组成物,其中该含卤素之化合物(c)是一含溴的苯乙烯聚合物。11.如申请专利范围第1至4项中之任一项的聚醯胺组成物,其中该化合物(d)系选自由无机化合物所组成的群体。12.如申请专利范围第11项的聚醯胺组成物,其中该化合物(d)是氧化锑或偏锑酸钠。13.如申请专利范围第1至4项中之任一项的聚醯胺组成物,其中至少有一种含酸亚胺基团的化合物是以(f)存在。14.如申请专利范围第13项之聚醯胺组成物,其中该含酸亚胺基团的化合物是苯乙烯马来醯亚胺共聚物。15.如申请专利范围第1至3项中任一项的聚醯胺组成物,其中该组成物含23-55wt%(a)。16.如申请专利范围第1至3项中任一项的聚醯胺组成物,其中该组成物包含8-25wt%(c)。17.如申请专利范围第1至3项中任一项的聚醯胺组成物,其中该组成物包含2-12wt%(d)。18.如申请专利范围第1至3项中任一项的聚醯胺组成物,其中该组成物包含10-45wt%(e)。19.如申请专利范围第1至3项中任一项的聚醯胺组成物,其中该组成物包含0-10wt%(f)。20.如申请专利范围第1至3项中任一项的聚醯胺组成物,该组成物被包含在电的或电子的成分中。图式简单说明:第1图和第2图各自代表在热空气烤箱和红外线辐射烤箱中之测试品的温度。 |
