发明名称 校正液晶显示装置之方法、校正光点不良部分之方法、雷射处理装置以及液晶显示装置
摘要 本发明为有效及确实地校正光学元件,如液晶显示装置之类的光点不良部份不产生任何浪费。形成于液晶显示装置10的光点不良部份会被来自雷射光源101所放射之雷射光束经由一衰减器102、一1/2λ波长板103、一光束扩大器104、一可变狭缝105、及一滤光片60,在该液晶显示装置10的显示萤幕10s侧照射。在此例中,因为欲放射的雷射光束波长系根据该光点不良部份的彩色滤光片的色彩由波长控制单元106作选取,所以该雷射光束会经由该彩色滤光片穿透到定向膜,因而改变该定向膜。
申请公布号 TW574527 申请公布日期 2004.02.01
申请号 TW091110015 申请日期 2002.05.14
申请人 万国商业机器公司 发明人 和田 竹彦;小林 繁隆;山田 七郎;桥本 有司
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种用以校正一液晶显示装置之方法,其在一对含定向膜之基板之间的间隙中包含密封之液晶,以及在其中一基板上具有彩色滤光片,该方法包括的步骤有:决定以雷射光束照射该液晶显示装置之位置;从具有该彩色滤光片之基板侧发出雷射光束照射该定向膜,该雷射光束会穿透该彩色滤光片;以及利用该穿透之雷射光束改变该定向膜。2.如申请专利范围第1项之用以校正一液晶显示装置之方法,其中在该液晶显示装置中所形成之光点不良部份会以该雷射光束持续地照射复数次。3.如申请专利范围第2项之用以校正一液晶显示装置之方法,其中在第一次雷射光束照射时会在该液晶中产生气泡,并且在第二次雷射光束照射时会改变该定向膜。4.如申请专利范围第3项之用以校正一液晶显示装置之方法,其中该雷射光束照射系在该液晶显示装置之液晶处于垂直定向的状态下进行。5.如申请专利范围第4项之用以校正一液晶显示装置之方法,其中该液晶显示装置在该基板的外部表面分别具有一偏光板,在以该雷射光束照射的偏光板上面则具有一防光散射膜,并且该雷射光束会经由该防光散射膜照射。6.一种用以校正一液晶显示装置中所形成之一光点不良部份之方法,该显示装置包括红光、绿光及蓝光(RGB)彩色滤光片,该方法包括的步骤有:侦测在光点不良部份的彩色滤光片之颜色;以及利用具有根据所侦测颜色而选取之特征之雷射光束照射该光点不良部份。7.如申请专利范围第6项之用以校正一液晶显示装置中所形成之一光点不良部份之方法,其中当所侦测到的颜色系红光时,穿透该彩色滤光片之雷射光束之穿透率不低于40%,当所侦测到的颜色系绿光时不低于30%,及当所侦测到的颜色系蓝光时不低于30%。8.如申请专利范围第6项之用以校正一液晶显示装置中所形成之一光点不良部份的方法,其中当所侦测到的颜色系红光时所发射的雷射光束波长不小于570奈米,当所侦测到的颜色系绿光时所发射的雷射光束波长介于470至600奈米之间,及当所侦测到的颜色系蓝光时所发射的雷射光束波长介于400至530奈米之间。9.一种用以校正光点不良部份之方法,包括的步骤有:利用雷射光束照射在液晶显示装置中所形成之光点不良部份,在该液晶显示装置中产生液晶气泡;以及在形成该气泡的状态发射该雷射光束,改变该液晶显示装置之定向膜,其中进行该雷射照射会在该液晶显示装置之液晶上施加电场。10.一种用以校正一液晶显示装置中所形成的光点不良部份之方法,其在一对含定向膜之基板之间的间隙中包含密封之液晶,及在其中一基板上具有彩色滤光片,该方法包括的步骤有:将液晶设定在气相状态中,该液晶系位于对应在该液晶显示装置中所形成的光点不良部份的位置之定向膜之间;以及从具有该彩色滤光片之基板侧发出雷射光束照射该光点不良部份,同时维持该气相状态。11.一种雷射处理装置,其包括:雷射发射装置,用以发射不同波长之雷射光束;决定装置,用以决定穿过欲以该雷射光束照射之目标之光线波长:以及控制装置,根据所决定之波长选取欲发射之雷射光束波长。12.如申请专利范围第11项之雷射处理装置,其中欲以该雷射光束照射之目标系一光学元件之光穿透部份,该元件具有复数个光穿透部份,其中所穿透之光波长彼此不相同。13.如申请专利范围第12项之雷射处理装置,进一步包括一1/2波长板,用以对所发射之雷射光束进行偏光,其中该光学元件包括一偏光板。14.如申请专利范围第11项之雷射处理装置,进一步包括一可变狭缝,用以改变该雷射光束之照射面积。15.如申请专利范围第11项之雷射处理装置,其中该雷射发射装置系YLF(钇锂氟)雷射,以及该控制装置会照射欲被照射之目标,其中当穿透光系红光时,以具有1053奈米波长之基波照射,以及照射欲被照射之目标,其中当穿透光系绿光及蓝光中任一项时,以具有526奈米波长之第二谐波照射。16.如申请专利范围第11项之雷射处理装置,其中该雷射发射装置系OPO(光参数振荡器),以及该控制装置会照射欲被照射之目标,其中当穿透光系红光时,以波长不小于570奈米之雷射光束照射,照射欲被照射之目标,其中当穿透光系绿光时,以波长介于470至600奈米之间之雷射光束照射,及照射欲被照射之目标,其中当穿透光系蓝光时,以波长介于400至530奈米之间之雷射光束照射。17.一种液晶显示装置,其包括:一第一基板,其上会形成彩色滤光片及一定向膜;一第二基板,其上会形成一元件,用以驱动液晶材料,及一定向膜;以及一液晶材料,密封在该第一及第二基板之间的间隙中,其中该第一基板的定向膜具有已改变之部份,及该第二基板的定向膜在对应该第一基板已改变部份的位置中之已改变部份小于该第一基板之已改变部份。18.如申请专利范围第17项之液晶显示装置,其中在对应该已改变部份的液晶显示材料中会阻止光线之穿透。图式简单说明:图1所示的系根据本发明具体实施例用以说明液晶显示装置校正方法之液晶显示装置之部分剖面图式。图2所示的系根据本发明具体实施例用于液晶显示装置校正中之雷射处理装置之构造图。图3所示的系在第一次雷射照射期间该液晶显示装置之部分剖面图。图4所示的系在第二次雷射照射期间该液晶显示装置之部分剖面图。图5所示的系在雷射照射之后该液晶显示装置之部分剖图。图6所示的系光谱特性图,表示红光,绿光及蓝光各彩色滤光片各波长之光穿透率。
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