| 主权项 |
1.一种由包含以下步骤所生产之触媒组份:以通式M(OR")2之可溶性二烷醇镁化合物与能够以一个卤素交换一个烷醇盐之卤化剂接触,以形成反应产物A,在此R"系具有从1至20个碳原子之烃基或经取代之烃基;将反应产物A与第一个卤化/钛酸化试剂接触,以形成反应产物B;及将反应产物B与第二个卤化/钛酸化试剂接触,以形成触媒组份,其中第一个卤化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4之掺合物。2.如申请专利范围第1项之触媒组份,其中可溶性二烷醇镁化合物系包含通式MgRR'之烷基镁化合物(其中R及R'系1-10个碳原子之烷基,并可以相同或不相同)与通式R"OH之醇(其中醇系直链或支链醇及其中R"系4-20个碳原子之烷基)的反应之反应产物。3.如申请专利范围第2项之触媒组份,其中可溶性镁化合物是二(2-乙基己醇基)镁。4.如申请专利范围第2项之触媒组份,其中烷基镁化合物是二乙基镁、二丙基镁、二丁基镁或丁乙基镁。5.如申请专利范围第2项之触媒组份,其中醇是乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇或2-乙己醇。6.如申请专利范围第2项之触媒组份,其中反应尚包含烷基铝。7.如申请专利范围第6项之触媒组份,其中烷基铝是三乙基铝。8.如申请专利范围第1项之触媒组份,其中第一个氯化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4以TiCl4对Ti(OPr)4之比例系以0.5:1至6:1为范围之掺合物。9.如申请专利范围第1项之触媒组份,其中反应尚包含电子给予体。10.如申请专利范围第9项之触媒组份,其中电子给予体对镁之比例系以0:1至10:1为范围。11.如申请专利范围第10项之触媒组份,其中电子给予体是一种醚。12.如申请专利范围第1项之触媒组份,其中卤化剂具有通式ClAR"'x,其中A系未还原之亲氧基化合物,R"'x系具有从2至6个碳原子之烃基部份及x系A减1之价数。13.一种由包含以下步骤之方法所生产之触媒:a)以触媒组份与有机铝预活化剂接触,其中触媒组份系由包含:i)以通式Mg(OR")2之二烷醇镁化合物与能够以一个卤素交换一个烷醇盐之卤化剂接触,以形成反应产物A,在此R"系具有从1至20个碳原子之烃基或经取代之烃基;ii)将反应产物A与第一个卤化/钛酸化试剂接触,以形成反应产物B:及iii)将反应产物B与第二个卤化/钛酸化试剂接触,以形成触媒组份之方法所生产的,其中第一个卤化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4之掺合物。14.如申请专利范围第13项之触媒,其中可溶性二烷醇镁化合物系包含通式MgRR'之烷基镁化合物(其中R及R'系1-10个碳原子之烷基,并可以相同或不相同)与通式R"OH之醇(其中醇系直链或支链醇及其中R"系4-20个碳原子之烷基)的反应之反应产物。15.如申请专利范围第14项之触媒,其中可溶性镁化合物是二(2-乙基己醇基)镁。16.如申请专利范围第14项之触媒,其中烷基镁化合物是二乙基镁、二丙基镁、二丁基镁或丁乙基镁。17.如申请专利范围第14项之触媒,其中醇是乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇或2-乙己醇。18.如申请专利范围第14项之触媒,其中反应尚包含烷基铝。19.如申请专利范围第18项之触媒,其中烷基铝是三乙基铝。20.如申请专利范围第13项之触媒组份,其中第一个氯化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4以TiCl4对Ti(OPr)4之比例系以0.5:1至6:1为范围之掺合物。21.如申请专利范围第14项之触媒,其中反应尚包含电子给予体。22.如申请专利范围第21项之触媒,其中电子给予体对镁之比例系以0:1至10:1为范围。23.如申请专利范围第22项之触媒,其中电子给予体是一种醚。24.如申请专利范围第3项之触媒,其中卤化剂具有通式ClAR"'x,其中A系未还原之亲氧基化合物,R"'x系具有从2至6个碳原子之烃基部份及x系A减1之价数。25.如申请专利范围第13项之触媒,其中第二个氯化/钛酸化试剂是卤化钛。26.如申请专利范围第25项之触媒,其中第二个氯化/钛酸化试剂是四氯化钛及其中钛对镁之范围系0:1至2:1。27.如申请专利范围第13项之触媒,其中有机铝预活化剂系通式AlR^3之烷基铝,在此R^系具有1-8个碳原子之烷基或卤化物,R^是相同或不相同的,并且至少一个R^是烷基。28.如申请专利范围第25项之触媒,其中有机铝预活化剂是三烷基铝。29.如申请专利范围第13项之触媒,其中铝对钛之比例系以从0.1:1至2:1为范围。30.如申请专利范围第13项之触媒,其中触媒具有符合聚合生产法之松散形态学,将提供具有大于7.0之分子量分布之聚乙烯,将具有至少6,000公克PE/公克触媒之活性,并将提供具有少量粒子小于125微米之均匀的粒子尺寸分布。31.一种由包含以下步骤之方法所生产之聚合物:a)以一或多种-烯烃单体在聚合条件下一起在触媒的存在下接触,其中触媒系由包含:i)以通式M(OR")2之二烷醇镁化合物与能够以一个卤素交换一个烷醇盐之卤化剂接触,以形成反应产物A,在此R"系具有从1至20个碳原子之烃基或经取代之烃基;ii)将反应产物A与第一个卤化/钛酸化试剂接触,以形成反应产物B;及iii)将反应产物B与第二个卤化/钛酸化试剂接触,以形成触媒组份之方法所生产的,其中第一个卤化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4之掺合物。32.如申请专利范围第31项之聚合物,其中触媒系由尚包含:iv)以触媒组份与有机铝试剂接触之方法所生产的。33.如申请专利范围第31项之聚合物,其中单体是乙烯单体。34.如申请专利范围第31项之聚合物,其中聚合物是聚乙烯。35.如申请专利范围第31项之聚合物,其中可溶性二烷醇镁化合物系包含通式MgRR'之烷基镁化合物(其中R及R'系1-10个碳原子之烷基,并可以相同或不相同)与通式R"OH之醇(其中醇系直链或支链醇及其中R"系4-20个碳原子之烷基)的反应之反应产物。36.如申请专利范围第35项之聚合物,其中可溶性镁化合物是二(2-乙基己醇基)镁。37.如申请专利范围第35项之聚合物,其中烷基镁化合物是二乙基镁、二丙基镁、二丁基镁或丁乙基镁。38.如申请专利范围第35项之聚合物,其中醇是乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇或2-乙己醇。39.如申请专利范围第35项之聚合物,其中反应尚包含烷基铝。40.如申请专利范围第39项之聚合物,其中烷基铝是三乙基铝。41.如申请专利范围第31项之聚合物,其中第一个氯化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4以TiCl4对Ti(OPr)4之比例系以0.5:1至6:1为范围之掺合物。42.如申请专利范围第35项之聚合物,其中反应尚包含电子给予体。43.如申请专利范围第42项之聚合物,其中电子给予体对镁之比例系以0:1至10:1为范围。44.如申请专利范围第43项之聚合物,其中电子给予体是一种醚。45.如申请专利范围第31项之聚合物,其中卤化剂具有通式ClAR"'x,其中A系未还原之亲氧基化物,R"'x系具有从2至6个碳原子之烃基部份及x系A减1之价数。46.如申请专利范围第31项之聚合物,其中第二个氯化/钛酸化试剂是卤化钛。47.如申请专利范围第46项之聚合物,其中第二个氯化/钛酸化试剂是四氯化钛及其中钛对镁之范围系0:1至2:1。48.如申请专利范围第32项之聚合物,其中有机铝预活化剂系通式AlR^3之烷基铝,在此R^系具有1-8个碳原子之烷基或卤化物,R^是相同或不相同的,并且至少一个R^是烷基。49.如申请专利范围第46项之聚合物,其中有机铝预活化剂是三烷基铝。50.如申请专利范围第47项之聚合物,其中铝对钛之比例系以从0.1:1至2:1为范围。51.一种形成触媒组份之方法,该方法包含:a)以通式Mg(OR")2之可溶性二烷醇镁化合物与能够以一个卤素交换一个烷醇盐之卤化剂接触,以形成反应产物A,在此R"系具有从1至20个碳原子之烃基或经取代之烃基;b)将反应产物A与第一个卤化/钛酸化试剂接触,以形成反应产物B;及c)将反应产物B与第二个卤化/钛酸化试剂接触,以形成触媒组份,其中第一个卤化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4之掺合物。52.如申请专利范围第51项之方法,,其中可溶性二烷醇镁化合物系包含通式MgRR'之烷基镁化合物,其中R及R'系1-10个碳原子之烷基,并可以相同或不相同)与通式R"OH之醇(其中醇系直链或支链醇及其中R"系4-20个碳原子之烷基)的反应之反应产物。53.如申请专利范围第52项之方法,其中可溶性镁化合物是二(2-乙基己醇基)镁。54.如申请专利范围第52项之方法,其中烷基镁化合物是二乙基镁、二丙基镁、二丁基镁或丁乙基镁。55.如申请专利范围第52项之方法,其中醇是乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇或2-乙己醇。56.如申请专利范围第52项之方法,其中反应尚包含烷基铝。57.如申请专利范围第56项之方法,其中烷基铝是三乙基铝。58.如申请专利范围第51项之方法,其中第一个氯化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4 /TiCl4以TiCl4对Ti(OPr)4之比例系以0.5:1至6:1为范围之掺合物。59.如申请专利范围第51项之方法,其中第二个氯化/钛酸化试剂是卤化钛。60.如申请专利范围第59项之方法,其中第二个氯化/钛酸化试剂是四氯化钛及其中钛对镁之范围系0:1至2:1。61.一种制得触媒之方法,该方法包含:a)以触媒组份与有机铝预活化剂接触,其中触媒组份系由包含:i)以通式Mg(OR")2之二烷醇镁化合物与能够以一个卤素交换一个烷醇盐之卤化剂接触,以形成反应产物A,在此R"系具有从1至20个碳原子之烃基或经取代之烃基;ii)将反应产物A与第一个卤化/钛酸化试剂接触,以形成反应产物B:及iii)将反应产物B与第二个卤化/钛酸化试剂接触之方法所生产的,其中第一个卤化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4之掺合物。62.如申请专利范围第61项之方法,其中第一个氯化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4 /TiCl4以TiCl4对Ti(OPr)4之比例系以0.5:1至6:1为范围之掺合物。63.如申请专利范围第62项之方法,其中TiCl4对Ti(OPr)4之比例系2:1。64.如申请专利范围第61项之方法,其中可溶性二烷醇镁化合物系包含通式MgRR'之烷基镁化合物(其中R及R'系1-10个碳原子之烷基,并可以相同或不相同)与通式R"OH之醇(其中醇系直链或支链醇及其中R"系4-20个碳原子之烷基)的反应之反应产物。65.如申请专利范围第61项之方法,其中可溶性镁化合物是二(2-乙基已醇基)镁。66.如申请专利范围第61项之方法,其中烷基镁化合物是二乙基镁、二丙基镁、二丁基镁或丁乙基镁。67.如申请专利范围第61项之方法,其中醇是乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇或2-乙己醇。68.如申请专利范围第61项之方法,其中反应尚包含烷基铝。69.如申请专利范围第68项之方法,其中烷基铝是三乙基铝。70.如申请专利范围第61项之方法,其中反应尚包含电子给予体。71.如申请专利范围第70项之方法,其中电子给予体对镁之比例系以0:1至10:1为范围。72.如申请专利范围第71项之方法,其中电子给予体是一种醚。73.如申请专利范围第61项之方法,其中卤化剂具有通式ClAR"'x,其中A系未还原之亲氧基化合物,R"'x系具有从2至6个碳原子之烃基部份。74.如申请专利范围第61项之方法,其中卤化剂系TiCl/Ti(OiPr)3之掺合物。75.如申请专利范围第61项之方法,其中第二个氯化/钛酸化试剂是卤化钛。76.如申请专利范围第61项之方法,其中第二个氯化/钛酸化试剂是四氯化钛及其中钛对镁之范围系0:1至2:1。77.如申请专利范围第61项之方法,其中有机铝预活化剂是烷基铝。78.如申请专利范围第61项之方法,其中电子给予体存在于任何其中一个步骤a)、i)、ii)或iii)中,及其中电子给予体对金属之比例系以0:1至10:1为范围。79.一种使-烯烃聚合之方法,其包含:a)以一或多种-烯烃单体在聚合条件下一起在触媒的存在下接触,其中触媒系由包含:i)以通式Mg(OR")2之二烷醇镁化合物与能够以一个卤素交换一个烷醇盐之卤化剂接触,以形成反应产物A,在此R"系具有从1至20个碳原子之烃基或经取代之烃基;ii)将反应产物A与第一个卤化/钛酸化试剂接触,以形成反应产物B;及ii)将反应产物B与第二个卤化/钛酸化试剂接触,以形成反应产物C之方法所生产的,其中第一个卤化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4之掺合物。80.如申请专利范围第79项之方法,其尚包含:b)萃取聚烯烃聚合物。81.如申请专利范围第80项之方法,其中聚合物具有小于7.0之分子量分布。82.如申请专利范围第80项之方法,其中聚合物是聚乙烯。83.如申请专利范围第79项之方法,其中触媒系由尚包含:iv)以反应产物C与有机铝试剂接触之方法所生产的。84.如申请专利范围第79项之方法,其中第一个氯化/钛酸化试剂系Ti(OPr)4/TiCl4以TiCl4对Ti(OPr)4之比例系以0.5:1至6:1为范围之掺合物。85.如申请专利范围第84项之方法,其中TiCl4对Ti(OPr)4之比例系2:1。86.如申请专利范围第79项之方法,其中步骤i)之卤化剂具有通式ClAR"'x,其中A系未还原之亲氧基化物,R"'x系具有从2至6个碳原子之烃基部份。87.如申请专利范围第86项之方法,其中卤化剂是ClTi(OiPr)3。88.如申请专利范围第86项之方法,其中第二个氯化/钛酸化试剂是卤化钛。89.如申请专利范围第88项之方法,其中第二个氯化/钛酸化试剂是四氯化钛及其中钛对镁之范围系0:1至2:1。90.如申请专利范围第79项之方法,其中有机铝试剂是三乙基铝。91.如申请专利范围第79项之方法,其中电子给予体存在于任何其中一个步骤i)-iv)中,及其中电子给予体对金属之比例系以0:1至10:1为范围。 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