发明名称 正型光阻剂组成物
摘要 本发明系提供一种工程范围广泛、且疏密相关性经改善的正型光阻剂组成物。本发明之正型光阻剂组成物包括(A)藉由酸作用可增大在硷显像液中之溶解速度的树脂及(B)含有藉由活性光线或放射线照射产生酸之化合物,其中(A)树脂为至少2种具有不同特定重复单位含有率之酸分解性树脂之组合。
申请公布号 TW574626 申请公布日期 2004.02.01
申请号 TW091116877 申请日期 2002.07.29
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 佐藤健一郎
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种正型光阻剂组成物,其包括(A)具有含下述通式(1)所示酸分解性基之重复单位且藉由酸作用增大在硷显像液中之溶解速度的树脂,及(B)藉由活性光线或放射线照射产生酸之化合物,其特征为含有至少2种的含酸分解性基之重复单位平均含有率不同的树脂(A),(其中,R表示氢原子或甲基,A表示单键或连结基,ALG表示下述通式(pI)-通式(pV)中任一式,其中,R11表示甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基或第2-丁基,Z表示碳原子与形成脂环式烃基之必要原子团,R12-R16各表示独立的碳数1-4个直链或支链烷基或脂环式烃基,R12-R14中至少一个、及R15.R16中任一个为脂环式烃基,R17-R21各表示氢原子、碳数1-4个直链或支链烷基或脂环式烃基,R17-R21中至少一个为脂环式烃基,且R19.R21,中任一个为碳数1-4个直链或支链烷基或脂环式烃基,R22-R25各表示独立的碳数1-4个直链或支链烷基或脂环式烃基,R22-R25中至少一个为脂环式烃基,且R23与R24亦可互相连结形成环)。
地址 日本