| 主权项 |
1.一种清洗液之组成物,系用于清洗彩色滤光片之基板周边不必要的光阻剂,该组成物包括:(A)99.4~80重量%之水;(B)0.5~15重量%之氢氧四级铵基盐类化合物;(C)0.1~10重量%之醇胺类化合物;(D)0.0001~0.1重量%之氟系界面活性剂;且该组成物在25℃之表面张力为60 dyne/cm以下。2.依据申请专利范围第1项所述清洗液之组成物,该组成物在25℃之表面张力为40 dyne/cm以下。3.依据申请专利范围第1项所述清洗液之组成物,该组成物在25℃之表面张力为35 dyne/cm以下。4.依据申请专利范围第1项所述清洗液之组成物,其中,氢氧四级铵基盐类化合物为氢氧四甲铵。5.依据申请专利范围第1项所述清洗液之组成物,其中,醇胺类化合物系选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺。6.一种清洗彩色滤光片之基板周边不必要的光阻剂之方法,系使用下述之清洗液组成物,其包括:(A)99.4~80重量%之水;(B)0.5~15重量%之氢氧四级铵基盐类化合物;(C)0.1~10重量%之醇胺类化合物;(D)0.0001~0.1重量%之氟系界面活性剂;且该组成物在25℃之表面张力为60 dyne/cm以下。图式简单说明:第一图是一个涂布光阻剂之基板的剖视放大图,说明光阻剂附着在基板上的状态。 |
