| 主权项 |
1.一种光硬化性树脂组成物,其特征系含有(A)具有以下列一般式(1)所示重覆单位,重量平均分子量为500~200,000之有机矽氧烷系高分子化合物(式中R1~R4系表示各个相同或相异的碳数1~8之1价烃基,又n是1~1,000之整数,X是表示由下列式所选择之基;(B)由甲醛水或甲醛乙醇液之变性之氨基缩合物、一分子中平均具有2个以上之羟甲基或烷氧基羟甲基之苯酚化合物、及一分子中平均具有2个以上之环氧基的环氧化合物中选出之一种以上,(C)光酸发生剂(D)以下列一般式(2)所示矽化合物或其部份水解缩合物(R11)mSi(OR12)4-m (2)(式中R11系取代或不取代之碳数1~9之1价烃基,R12系表示碳数1~4之烷基,R11及R12是相同或相异,m系表示0~2之整数)。2.一种图型形成方法,其特征系包含(i)将申请专利范围第1项之记载之光硬化性树脂组成物涂敷在基板步骤,(ii)介盖遮光膜以波长150~450nm做露光步骤,(iii)以现像液现像之步骤。3.一种基板保护用薄膜,其特征系在于将申请专利范围第1项记载光硬化性树脂组成物之图型化薄膜后硬化而得。 |
