| 摘要 |
一种用于检查基板(2)之显微测量装置(1)，包括一显微镜(20)，一照明系统(12)，较佳者是一目镜(10)，一支架(30)，一基板架(40)，及一旋转装置(71)及／或倾斜装置(72)。该基板架(40)可被移动于位于该显微镜(20)及该目镜(10)之分别目视范围(11，21)之至少两位置之间。该基板(2)可首先藉由该旋转及／或倾斜装置(71，72)接受倾斜光检查以找出缺陷位置。不必从该基板架(40)移除该基板(2)，随后其可使用该显微镜(20)进行高解析度检查以便分类位于被找出之缺陷位置之该缺陷。 |
