发明名称 |
薄膜积层体、薄膜电池、电容器、以及薄膜积层体之制造方法及制造装置 |
摘要 |
一种薄膜积层体,系将至少由第1薄膜层与第2薄膜层所构成之积层单位反覆进行至少2次以上积层而构成者;该第1薄膜层及第2薄膜层中之至少一方的积层面积系由下层往上层而递减。藉此,可提高层间之连接可靠性,并提高于侧面形成保护层时的形成性与附着强度。 |
申请公布号 |
TW200401708 |
申请公布日期 |
2004.02.01 |
申请号 |
TW092106749 |
申请日期 |
2003.03.26 |
申请人 |
松下电器产业股份有限公司 |
发明人 |
本田和义;高井赖子;冈崎祯之;稻叶纯一;伊藤修二;口洋;酒井仁;美浓辰治 |
分类号 |
B32B3/02;H01M10/40;H01G9/155 |
主分类号 |
B32B3/02 |
代理机构 |
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代理人 |
林镒珠 |
主权项 |
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地址 |
日本 |