发明名称 薄膜积层体、薄膜电池、电容器、以及薄膜积层体之制造方法及制造装置
摘要 一种薄膜积层体,系将至少由第1薄膜层与第2薄膜层所构成之积层单位反覆进行至少2次以上积层而构成者;该第1薄膜层及第2薄膜层中之至少一方的积层面积系由下层往上层而递减。藉此,可提高层间之连接可靠性,并提高于侧面形成保护层时的形成性与附着强度。
申请公布号 TW200401708 申请公布日期 2004.02.01
申请号 TW092106749 申请日期 2003.03.26
申请人 松下电器产业股份有限公司 发明人 本田和义;高井赖子;冈崎祯之;稻叶纯一;伊藤修二;口洋;酒井仁;美浓辰治
分类号 B32B3/02;H01M10/40;H01G9/155 主分类号 B32B3/02
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本