| 主权项 |
1.一种重量平均分子量1,000至500,000之高分子化合 物,其系含有下记式(1)与式(2)所示单位者; (式中,R1为氢原子、甲基或CH2CO2R3;R2为氢原子、甲 基或CO2R3;R3为碳数1至15之直链状、支链状或环状 之烷基;R4为氢原子、碳数1至15之直链状、支链状 或环状烷基、碳数2至15之直链状、支链状或环状 烷氧烷基、或碳数1至15之直链状、支链状或环状 醯基;R5为碳数1至8之直链状、支链状或环状烷基 或碳数6至20之可取代的芳基;Y为可含有杂原子之 碳数4至15之2价烃基,且可与两端键结之碳原子共 同形成环;Z为碳数1至10之3价烃基,Z可与R1形成环, 此时,R1为伸甲基、Z为碳数1至10之4价烃基,k为0或1; W为-O-或-(NR)-;R为氢原子或碳数1至15之直链状、支 链状或环状烷基)。2.如申请专利范围第1项之高分 子化合物,其中,上式(1)所示单位系为下记式(3)与 式(4)所示单位者; (式中,R1至R5.Z、k具有与上记相同之意义;R6至R15为 各自独立之氢原子或碳数1至15之可含有杂原子的1 价烃基,其可相互形成环,此时为碳数1至15之可含 有杂原子的2价烃基;又,R6至R15于相邻接之碳进行 键结时可无须夹有其他原子而键结,或形成双键;m 为0或1,n为0.1.2.3中任一者,且为满足2m+n=2之数)。3. 如申请专利范围第1或2项之高分子化合物,其尚含 有1种或2种以上选自下记式(5)至(8)所示单位者; (式中,R1.R2.k具有与上记相同之意义;R18至R21中至少 1个为碳数1至15之羧基或含羟基之1价烃基,其他部 分为各自独立之氢原子或碳数1至15之直链状、支 链状或环状烷基;R18至R21可相互形成环,此时,R18至R 21中至少1个为碳数1至15之羧基或含羟基之2价烃基 ,其他部分为各自独立之单键或碳数1至15之直链状 、支链状或环状伸烷基;R22至R25中至少1个为碳数2 至15之含-CO2-部分构造之1价烃基,其他部分为各自 独立之氢原子或碳数1至15之直链状、支链状或环 状烷基;R22至R25可相互形成环,此时,R22至R25中至少1 个为碳数1至15之含-CO2-部分构造之2价烃基,其他部 分为各自独立之单键或碳数1至15之直链状、支链 状或环状伸烷基;R26为碳数7至15之多环式烃基或含 有多环式烃基之烷基;R27为酸不稳定基;X为-CH2-或-O -)。4.一种光阻材料,其系含有如申请专利范围第1 至3项中任一项之高分子化合物者。5.一种形成图 型之方法,其特征系包含将申请专利范围第4项之 光阻材料涂布于基板上之步骤与,于加热处理后介 由光罩使用高能量线或电子线进行曝光之步骤与, 必要时于加热处理后使用显影液进行显影之步骤 。 |
