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发明名称 POLISHING ELEMENT, CMP POLISHING DEVICE AND PRODUCTIONJ METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20040010566(A) 申请公布日期 2004.01.31
申请号 KR20037007085 申请日期 2003.05.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/304;B24B37/20;B24D13/14;B24D13/20;H01L21/3105;H01L21/321 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
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