发明名称 Verfahren zum lokalen Erhitzen eines in einem Halbleitersubstrat angeordneten Bereichs
摘要 Es wird ein Verfahren zum lokalen Erhitzen eines in einem Substrat angeordneten Bereichs angegeben, das die Schritte des Bereitstellens eines Substrats, des Erzeugens zumindest eines in dem Substrat angeordneten Bereichs, der einen geringeren spezifischen Widerstand aufweist als das umgebende Substrat, sowie des lokalen Erhitzens des Bereichs durch Induktion von Wirbelströmen mittels eingestrahlter elektromagnetischer Energie umfaßt.
申请公布号 DE10229642(A1) 申请公布日期 2004.01.29
申请号 DE2002129642 申请日期 2002.07.02
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 MANGER, DIRK
分类号 C23C16/04;H01L21/02;H01L21/285;H01L21/324;H01L21/326;H01L21/334;H01L21/8242 主分类号 C23C16/04
代理机构 代理人
主权项
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