发明名称 |
高对比度电致发光器件 |
摘要 |
一种涉及显示器件,尤指一种高对比度电致发光器件显示技术的装置。该装置由背电极、电子传输层、发光层、空穴传输层、透明电极、消光干涉层及玻璃基板等组成,其消光干涉层可位于:在透明电极与透明衬底之间;或在透明衬底的前面;或在透明衬底的后面;或在发光层的后面;有机电致发光器件位于消光干涉层的一侧或透明电极的一侧;该消光干涉层由低反射率薄膜、过渡层薄膜、高反射率薄膜三层结构以及这三层结构的周期组成。本发明的优点:可提供一种高对比度的电致发光器件,在提高对比度的同时,不用改变电致发光器件的制作工艺,制作成本低。 |
申请公布号 |
CN1471343A |
申请公布日期 |
2004.01.28 |
申请号 |
CN03129530.4 |
申请日期 |
2003.06.26 |
申请人 |
孙润光 |
发明人 |
孙润光 |
分类号 |
H05B33/14;H05B33/10 |
主分类号 |
H05B33/14 |
代理机构 |
上海东亚专利代理有限公司 |
代理人 |
童素珠 |
主权项 |
1.一种高对比度电致发光器件,该装置有背电极、电子传输层、发光层、空穴传输层、透明电极、消光干涉层及玻璃基板,其特征在于:消光干涉层位于:a)、在透明电极与透明衬底之间;b)、在透明衬底的前面;c)、在透明衬底的后面;d)、在发光层的后面;电致发光器件位于消光干涉层的一侧或透明电极的一侧。 |
地址 |
201800上海市嘉定区塔城路475弄23号102室 |