发明名称 VACUUM SPUTTERING CATHODE
摘要 La cathode pour pulvérisation sous vide dont le support de cible (2) est constitué par un refroidisseur, est remarquable en ce qu'elle comprend une embase support (3) sur laquelle est superposé un cadre (11) délimitant au moins un espace vide (1a) pour la circulation d'un fluide de refroidissement , ledit cadre (11) recevant en superposition une membrane (4), l'embase (3), l e cadre (11) et la membrane (4) étant assemblés ensemble en périphérie.</SDOAB >
申请公布号 CA2492174(A1) 申请公布日期 2004.01.22
申请号 CA20032492174 申请日期 2003.07.08
申请人 TECMACHINE 发明人 AULAGNER, MICHEL;LABALME, LIONEL
分类号 C23C14/34;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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