<p>Zur Reduzierung des Basiswiderstandes und damit zur Erzielung einer niederohmigen Basiselektrode eines Bipolartransistors wird als Basiselektrode (2) eine Polysiliziumschicht verwendet, in der Fremdatome, insbesondere C-Atome, eingebracht sind, die eine hohe Dichte an Gitterleerstellen in der Polysiliziumschicht bewirken.</p>
申请公布号
WO2004008543(A1)
申请公布日期
2004.01.22
申请号
WO2003EP07553
申请日期
2003.07.11
申请人
INFINEON TECHNOLOGIES AG;BOECK, JOSEF;MEISTER, THOMAS;ROMANYUK, ANDRIY;SCHAEFER, HERBERT
发明人
BOECK, JOSEF;MEISTER, THOMAS;ROMANYUK, ANDRIY;SCHAEFER, HERBERT