| 主权项 |
1.一种溅镀装置,系藉由复数靶之同时溅镀以进行膜形成者,其特征在于具有:溅镀室;复数靶用支持体,其分别与装载于该溅镀室之基板夹持具之基板被成膜面相对而设,可绕个别之中心轴之周围面旋转;复数阴极,其相互隔离设置于该支持体上,分别具有复数靶装载面;以及靶定位机构,其分别使前述支持体旋转,可将装载于各个前述支持体之一靶装载面之靶设定于与前述被成膜面相对之成膜位置上。2.一种溅镀装置,系藉由复数靶之同时溅镀以进行膜形成者,其特征在于具有:溅镀室;托盘,其设定成自由搬进搬出该溅镀室内;复数靶用支持体,其于前述溅镀室内,分别与装载于该托盘之基板之被成膜面相对而设,可绕个别中心轴之周围而旋转;复数阴极,其相互隔离设于该支持体上,分别具有复数靶装载面;以及靶定位机构,其分别使前述支持体旋转,可将装载于各个前述支持体之一靶装载面之靶设定于与前述被成膜面相对之成膜位置。3.如申请专利范围第2项之溅镀装置,其中,以该溅镀装置作为两面成膜型装置。4.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其中,在前述被成膜面中心侧相对之中心侧靶装载面,系平行于该被成膜面之面,且在与前述被成膜面周边侧相对之周边侧靶装载面,系相对于该中心侧靶装载面倾斜,俾越远离前述中心侧靶装载面,越接近前述被成膜面。5.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其中,以前述支持体之中心轴作为该支持体之旋转轴,各旋转轴设成平行于前述被成膜面,并且相互平行。6.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其中,复数个前述支持体系沿前述托盘之搬进搬出方向排列。7.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其更具有距离调整机构,俾于调整装载于前述靶装载面之靶之被溅镀面与前述被成膜面间之对向距离。8.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其更具有调整前述支持体之相互间距离的距离调整机构。9.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其中,将前述支持体之截面形状作成选自三角形、四角形及五角形以上之多角形形状中之任一形状。10.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其更具有清洁未与前述基板相对之侧之靶的清洁装置。11.如申请专利范围第4项之溅镀装置,其中,于膜形成中,藉前述靶定位机构分别使周边侧之前述支持体旋转,以调整该支持体之前述周边侧靶装载面对前述基板被成膜面之倾斜角度。12.如申请专利范围第4项之溅镀装置,其中,于膜形成中,藉前述靶定位机构,使周边侧之前述支持体,于某一角度范围内,沿正反方向,交互旋转振动。13.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其中,每一个前述支持体上均具有护罩,其设在前述溅镀室内,且在前述支持体周围之一部份包围该支持体,同时在膜形成时不包围与前述基板相对之靶。14.如申请专利范围第13项之溅镀装置,其更具有护罩驱动机构,用来与前述支持体联动而可驱动前述护罩。15.如申请专利范围第11项之溅镀装置,其中,以前述支持体之中心轴作为该支持体之旋转轴,各旋转轴设成平行于前述被成膜面,并且相互平行。16.如申请专利范围第11项之溅镀装置,其中复数个前述支持体系沿前述托盘之搬进搬出方向排列。17.如申请专利范围第11项之溅镀装置,其更具有距离调整机构,俾于调整装载于前述靶载面之靶之被溅镀面与前述被成膜面间之相向距离。18.如申请专利范围第11项之溅镀装置,其更具有调整前述支持体之各中心轴间之距离的距离调整机构。19.如申请专利范围第11项之溅镀装置,其中,将前述支持体之截面形状作成自三角形、四角形及五角形以上之多角形形状中之任一形状。20.如申请专利范围第11项之溅镀装置,其更具有清洁未与前述基板相对之侧之靶的清洁装置。21.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其中,前述支持体之各靶装载面系平行于前述基板之被成膜面,同时该靶装载面彼此之间互为平行。22.如申请专利范围第1项之溅镀装置,其中前述基板为玻璃基板。图式简单说明:图1系供说明习知溅镀装置之要部概略平面图。图2系供说明本发明溅镀装置之要部概略平面图,且系显示使用3个靶同时于一片基板上形成膜之构造例之图式。图3系供说明本发明溅镀装置之支持体之阴极与基板之相对位置关系之概略说明图。图4系供说明本发明溅镀装置之另一构造例之要部概略平面图,且系显示适用本发明于两面成膜装置之构造例之图式。图5系供说明本发明溅镀装置之再另一构造例之要部概略平面图,且系显示适用本发明于两面成膜装置之构造例之图式。图6(A)及(B)系供说明用于本发明溅镀装置之支持体之另一构造例之概略平面图。图7系供说明用于本发明溅镀装置之靶定位机构之说明图。图8系供说明用于本发明溅镀装置之距离调整机构之说明图。图9系供说明本发明溅镀装置要部之清洁装置之概略说明图。图10系供说明本发明溅镀装置要部之护罩驱动机构之概略说明图。 |
