发明名称 光模组之对准方法、光模组、光模组之对准装置
摘要 本发明系提供一种于短时间内正确进行光纤与微型透镜光轴调整之对准方法。光结合机构(4)系具有准直透镜(41)与半反射镜(42),其系以参考光形成平行光后,藉半反射镜42使之沿与微型透镜阵列32射出之物体光同一方向折射后,与该物体光相重叠,而产生干扰图案者。
申请公布号 TW573138 申请公布日期 2004.01.21
申请号 TW091112408 申请日期 2002.06.07
申请人 板硝子股份有限公司 发明人 滨中贤二郎
分类号 G02B6/32 主分类号 G02B6/32
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种光模组之对准方法,其系使该光模组之光纤与对应于该光纤之微型透镜之光轴相对者,该光模组系包含有:配列有呈1维或2维之多数光纤之光纤阵列,及配列有呈1维或2维之多数微型透镜之微型透镜阵列;使来自雷射光源之雷射光分开,令一部份之雷射光作为物体光射入于前述多数光纤中至少一条,并由微型透镜阵列射出,将前述分开之另一部份之雷射光作为参考光与前述射出后之物体光相重叠,使产生干扰图案,根据该干扰图案而对光纤阵列与微型透镜阵列之相对位置进行微量调整者。2.如申请专利范围第1项之光模组之对准方法,其系使前述物体光射入于两条光纤后,作为参考光而相重叠,而产生2个干扰图案,并令前述两干扰图案近似,俾对于光纤阵列与微型透镜阵列之相对位置进行微量调整者。3.如申请专利范围第2项之光模组之对准方法,其系使由前述两干扰图案之干扰条纹解析出之波面相位近似者。4.如申请专利范围第1项之光模组之对准方法,其系使前述物体光或参考光之相位移位,以改变干扰图案者。5.如申请专利范围第1项之光模组之对准方法,其系观测位于相隔前述微型透镜阵列预定距离之位置的干扰图案者。6.如申请专利范围第5项之光模组之对准方法,其中该用于观测干扰图案之位置为波面相位近似于平面波者。7.一种光模组,其系以申请专利范围第1至6项中任一项之光模组对准方法,将光纤阵列与微型透镜阵列对准,在该状态下黏着光纤阵列及微型透镜阵列而成者。8.一种光模组之对准装置,其系用以使该光模组之光纤与对应于该光纤之微型透镜之光轴相对者,该光模组系具有:配列有呈1维或2维之多数光纤之光纤阵列,及配列有呈1维或2维之多数微型透镜之微型透镜阵列;该对准装置系包含有:分割机构,系用以将来自雷射光源之雷射光分成物体光与参考光者;引导机构,系用以将物体光导向光纤者;光结合机构,系用以将由微型透镜阵列射出之物体光与参考光相重叠,以产生干扰图案者;光观测机构,系用以观测前述干扰图案者;及微调机构,系用以根据干扰图案,而对光纤阵列与微型透镜阵列之相对位置进行微量调整者。9.如申请专利范围第8项之光模组之对准装置,其中该物体光之光路上设有一光耦合机构,其系可将物体光朝用以构成光纤阵列之两条光纤射入者。10.如申请专利范围第8项之光模组之对准装置,其中该参考光之光路或由微型透镜阵列射出之物体光之光路上设有一相位移位机构。11.如申请专利范围第8项之光模组之对准装置,其中该光观测机构系包含有:CCD摄影机、摄像管不等之影像输入元件,及,用以将位于间隔微型透镜预定距离之位置上的影像聚结于前述影像输入元件之光学系。图式简单说明:第1图系本发明之对准方法中使用之装置的概略构成图。第2(a)图系显示光模组之一形态之侧视图、第2(b)图系由2(a)图之A方向观看光纤阵列者。第3(a)图系用以说明光纤与微型透镜之光轴一致时,物体光之波面图;第3(b)图系用以说明光纤与微型透镜之光轴不一致时之物体光之波面图;第3(c)图系用以说明使光纤相对地朝光轴方向移动时之物体光之波面图。第4(a)至4(c)图系显示物体光与参考光相重叠之形态及藉其产生之干扰图案者。第5(a)图及第5(b)图系监视器中显示有2个干扰图案之状态图。第6图系同于第1图而为另一实施例者。第7图系概念性的说明波面相位之最大偏差图。第8图系显示干扰条纹、波面之相位偏差及光轴偏差量者。第9图系显示光模组之另一实施例者。
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