| 主权项 |
1.一种用于由含铁金属馈料制备熔融金属的直接熔炼厂,其包括:一个固定的熔炼熔炉,以保持含有金属层以及在该金属层上之熔渣层和在该熔渣上方气体空间的熔融池;一个固体馈料构件,以将含铁金属馈料和含碳材料供应至该熔炉中;向下延伸进入该熔炉中之气体注入构件,以将氧化气体注入气体空间及/或熔炉中之该熔渣层之内;由位于远离该熔炉之气体供应处延伸至位于该熔炉上方的传送处之气体输出导管构件,以将氧化气体传送至该气体注入构件;用于使废气流由熔炉的上面部份排出该熔炉的废气导管构件;一种在熔炼期间使熔融金属流由该熔炉的下方部份离开该池的金属出汤构件;一个金属出汤流槽,以接收由该金属出汤构件而来的熔融金属,并且将熔融金属送离该熔炉;在该熔炉的侧壁中之熔渣出汤构件,在熔炼期间用于由该池熔渣出汤;和熔渣出汤流槽,以接收由该熔渣出汤构件而来的熔渣,并且将熔渣送离该熔炉;特征是氧化气体输出导管构件和废气导管构件,在环绕于该熔炉周边之空间中的三个不连续的区域中的第一区延展,并且向外延伸出该熔炉;被配置在该三个区域中之第二区的金属出汤构件和金属出汤流槽;和被配置在该三个区域中之第三区的熔渣出汤构件和熔渣出汤流槽。2.如申请专利范围第1项的直接熔炼厂,进一步的特征是第二和第三区是被配置在熔炼熔炉之相对侧,而且第一区则被配置在环绕该熔炉周围之第二和第三区之间。3.如申请专利范围第2项的直接熔炼厂,进一步的特征是该厂进一步包含在熔炼操作结束时,用于将熔渣由该熔炉的下面部份排出之熔渣排放构件,该构件比熔渣出汤构件更低,以及接收来自该熔渣排放构件的熔渣并且将其送离该熔炉之熔渣排放流槽。4.如申请专利范围第3项的直接熔炼厂,进一步的特征是熔渣排放构件和熔渣排放流槽是位在第二和第三区之间,由该熔炉向外延伸的第四个不连续区域中。5.如申请专利范围第4项的直接熔炼厂,进一步的特征是第四区一般是被配置在关于该熔炉之第一区的对面。6.如申请专利范围第1项至第5项中任一项的直接熔炼厂,进一步的特征是该金属出汤构件含有由该熔炉的下面部份向外突出之金属流前炉。7.如申请专利范围第6项的直接熔炼厂,进一步的特征是被配置在远离该熔炉的金属支承构件,而且金属出汤流槽延伸至该支承构件以将熔融金属传送进入该支承构件。8.如申请专利范围第7项的直接熔炼厂,进一步的特征是该金属支承构件是一个保温炉。9.如申请专利范围第1项至第5项中任一项的直接熔炼厂,进一步的特征是在气体供应处之气体加热构件,以将热气体供应至用于注入该熔炉之气体传送导管构件。10.如申请专利范围第9项的直接熔炼厂,进一步的特征是该气体传送导管构件含有由该气体供应处延伸至该传送处的单一气体导管。11.如申请专利范围第1项至第5项中任一项的直接熔炼厂,进一步的特征是固体馈料构件含有一个或多个固体注入气孔。12.如申请专利范围第11项的直接熔炼厂,进一步的特征是环绕在熔炉周围间隔排列之多数固体注入气孔。13.如申请专利范围第11项的直接熔炼厂,进一步的特征是该或每一个气孔向下地及向内地穿过该熔炉之侧壁而到达该熔炉之内。14.如申请专利范围第1项至第5项中任一项的直接熔炼厂,进一步的特征是该熔渣出汤构件含有在熔炉的侧壁中的一对熔渣出汤凹孔。15.如申请专利范围第1项至第5项中任一项的直接熔炼厂,进一步的特征是该熔炉是被配置在中央垂直轴处,而且该些区域是由该熔炉外侧之中央轴向外辐射。16.如申请专利范围第15项的直接熔炼厂,进一步的特征是该熔炉被配置在通向限制渗漏坑之倾斜的排放地板上。17.如申请专利范围第3项的直接熔炼厂,其中有一个熔渣排放坑以接收来自该熔渣排放流槽构件的熔渣。图式简单说明:第1图是依据本发明之熔炼厂配置的直接熔炼炉的垂直截面图;第2图是配置在该熔炉周边空间且向外辐射的四个分离的作业区之熔炉的概略平面图;第3图是在该装置中熔炼炉和熔融金属与熔渣处理构件之概略平面图;第4图是类似第3图,但对熔渣排放做稍微修正之熔渣处理构件的概略平面图;第5图是稍微修正之金属处理构件之概略平面图;第6图说明一个前炉抑制爆发通风橱;第7图是前炉流出孔和流槽的概略平面图;第8图是该熔炉与金属和熔渣处理构件之示意截面图;第9图是熔渣排放流出孔构件的示意配置图;第10图是该装置之熔渣凹口和流槽构件之概略平面图;和第11图是该装置抑制渗漏构件之示意截面图。 |
