| 主权项 |
1.一种液晶显示元件,其系包括至少一个基板以及一液晶层,其中一具有一朝向方向局部地为不同于其它的区域之朝向方向的不同的朝向方向区域系存在。2.一种液晶显示元件,其系包括一对基板以及一液晶层,其中该对基板已经受到大致平行的对齐处理,并且一个具有朝向方向为局部地不同于其它的区域之朝向方向之不同的朝向方向区域系存在。3.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系具有在该基板的附近之液晶的朝向方向。4.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该至少一个基板系已经受到对齐处理,因而一个具有朝向方向为局部地不同于其它的区域之朝向方向之不同的朝向方向区域系存在。5.如申请专利范围第4项之液晶显示元件,其中该对齐处理系为研磨。6.如申请专利范围第5项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为一个空间障碍物。7.如申请专利范围第5项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为一个柱形的主体。8.如申请专利范围第5项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为一个圆锥形的主体。9.如申请专利范围第5项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为一个凸面的主体。10.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为一个凹槽形的结构。11.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为一个凹面的凹槽之结构。12.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为一种光对齐的处理。13.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为一用于局部的刮擦之步骤。14.如申请专利范围第13项之液晶显示元件,其中该用于局部的刮擦之步骤是一个用于压下一个针状的物体在该基板上,并且在该物体被压在其上之下移动该物体在该基板的平面中之步骤。15.如申请专利范围第13项之液晶显示元件,其中该基板系包含一对齐层,并且该用于局部的刮擦之步骤是一个用于使得该对齐层局部地消失之步骤。16.如申请专利范围第13项之液晶显示元件,其中该基板系包含一对齐层,并且该用于局部的刮擦之步骤是一个用于以一雷射光束局部地照射该对齐层之步骤。17.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域之朝向方向系与其它的区域之朝向方向差异90度。18.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中一刮痕的方向系与其它的朝向区域之朝向方向差异90度。19.如申请专利范围第18项之液晶显示元件,其中该刮痕是一条弧线。20.一种用于制造一液晶显示元件之方法,该液晶显示元件系包括至少一个基板以及一液晶层,其中具有一朝向方向局部地为不同于其它的区域之朝向方向的不同的朝向方向区域系存在,其中一用以形成该不同的朝向方向区域之步骤系被进行在一不同于用以决定其它的区域之朝向方向的对齐处理的步骤之步骤中。21.如申请专利范围第20项之方法,其中研磨系被进行复数次。22.如申请专利范围第20项之方法,其中该用以形成不同的朝向方向区域之步骤是一用以刮擦在该基板上的步骤。23.如申请专利范围第20项之方法,其中该用以形成不同的朝向方向区域之步骤是一个光对齐处理的步骤。24.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该用以形成不同的朝向方向区域之步骤系被进行在一相同于用以决定其它的区域之朝向方向的步骤之步骤中。25.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域是周期性地被形成。26.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该基板系包含像素,并且该不同的朝向方向区域系对于复数个像素而被形成。27.如申请专利范围第1项之液晶显示元件其中该基板系包含像素,并且该不同的朝向方向区域系对于每个像素而被形成。28.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系不规则地被形成。29.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该液晶显示元件是一个OCB模式的液晶显示元件。30.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该液晶层的液晶系被配置以具有一种自补偿的结构。31.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该液晶层的液晶系具有彼此不同的一种用于显示之显示朝向情况以及一种在电源关断情况下之最初的朝向状态,其系包括用于转变该最初朝向状态成为该显示朝向状态之转变机构。32.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中一瑕疵系被产生在该不同的朝向方向区域中。33.如申请专利范围第31项之液晶显示元件,其中一瑕疵系在该转变机构的作用期间被产生在该不同的朝向方向区域中。34.如申请专利范围第32项之液晶显示元件,其中该瑕疵是一个介于一个具有射流朝向中心在一个基板的附近之区域以及一个具有射流朝向中心在其它的基板的附近之区域之间的边界。35.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中一个预倾斜的角度系在该不同的朝向方向区域中变化。36.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域之液晶的朝向方向系与在其它的区域中的液晶之朝向方向差异45度或是更大的。37.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域之液晶的朝向方向系与在其它朝向的区域中的液晶之朝向方向差异60度或是更大的。38.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域之液晶的朝向方向系与在其它朝向的区域中的液晶之朝向方向差异90度或是较小的。39.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系与一个空间物体接触。40.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系变成为一个转变核心。41.如申请专利范围第40项之液晶显示元件,其中一个电压系被施加至该不同的朝向方向区域。42.如申请专利范围第41项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系被形成在一个像素电极之上。43.如申请专利范围第41项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系被形成在一个储存电容器电极之上。44.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系被遮罩。45.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其系包括用以形成该不同的朝向方向区域的机构以及用以保护该不同的朝向方向区域的机构。46.如申请专利范围第45项之液晶显示元件,其中介于该用以形成该不同的朝向方向区域的机构以及该用以保护该不同的朝向方向区域的机构之间的距离是五倍或是少于五倍于该空间障碍物的高度。47.如申请专利范围第45项之液晶显示元件,其中该用以形成该不同的朝向方向区域的机构系被设置在该用以保护该不同的朝向方向区域的机构之间隙部分之中。48.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其系包括用于平坦化该基板的机构。49.一种液晶显示元件,其系包括至少一个基板以及一液晶层,其中该液晶层具有一个平行的对齐区域以及一个扭转朝向的区域。50.如申请专利范围第49项之液晶显示元件,其中在该扭转朝向的区域之中央部分内的液晶分子之朝向方向系不同于平行的对齐区域之中央部分内的液晶分子之朝向方向。51.如申请专利范围第49项之液晶显示元件,其中在该扭转朝向的区域中之中央部分内的液晶分子之朝向方向系具有一种分布。52.如申请专利范围第49项之液晶显示元件,其中在该扭转朝向的区域之中央部分内的液晶分子之朝向方向系与该手行的对齐区域之中央部分内的液晶分子之朝向方向差异大致90度。53.如申请专利范围第49项之液晶显示元件,其中复数种类型的扭转朝向的区域系被形成。54.如申请专利范围第49项之液晶显示元件,其中该扭转朝向的区域系具有射流扭转的朝向。55.如申请专利范围第3项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域之对齐处理方向系与其它的区域之对齐处理方向差异90度或是更大的。56.如申请专利范围第49项之液晶显示元件,其中该扭转朝向的区域系具有一个正常的配置扭转的朝向。57.如申请专利范围第49项之液晶显示元件,其中一种手性试剂系被加入在该液晶层中的液晶内。58.一种液晶显示元件,其系包括至少一个基板以及一液晶层,其中该基板已经受到对齐处理,并且一个局部地朝向的区域系存在于一个不同于该对齐处理方向之方向上。59.一种液晶显示元件,其系包括一对基板以及一液晶层,其中该对基板已经受到大致平行的对齐处理,并且一个局部地朝向的区域系存在于一个不同于该对齐处理方向之方向上。60.如申请专利范围第58项之液晶显示元件,其中该基板系包含一个空间物体,并且该局部地朝向的区域系存在于该空间物体的周围。61.如申请专利范围第60项之液晶显示元件,其中该空间物体系具有一垂直的朝向之表面。62.如申请专利范围第60项之液晶显示元件,其中该空间物体系具有一个疏水的表面。63.如申请专利范围第58项之液晶显示元件,其中该局部地朝向的区域尚未受到对齐处理。64.如申请专利范围第58项之液晶显示元件,其中该局部地朝向的区域系比其它的区域较少受到对齐处理。65.如申请专利范围第60项之液晶显示元件,其中该空间物体系由一个空间物体之复合的主体所构成。66.一种液晶显示元件,其系具有一种液晶,其中一种其中电压未被施加至该液晶之无电场的朝向状态以及一种用于显示的显示朝向状态系彼此不同,该元件系包括:用以转变至该显示朝向状态的机构与决定该液晶的厚度之柱间隔物,至少一部分的该柱间隔物系作用为一个转变核心。67.如申请专利范围第66项之液晶显示元件,其中该液晶显示元件是OCB类型的液晶显示元件。68.一种液晶显示元件,其系包括一对基板,该等基板中至少一个基板系被设置有复数个空间物体,其中该复数个空间物体系具有与该对基板两者接触的空间物体、以及与该对基板中之一接触的空间物体。69.如申请专利范围第68项之液晶显示元件,其中该复数个空间物体之高度系大致相等。70.如申请专利范围第68项之液晶显示元件,其中一个凹面的部分系被形成在对应于该等空间物体之基板的部分之一上。71.如申请专利范围第68项之液晶显示元件,其中一个凸面的部分系被形成在对应于该空间物体之基板的部分之一上。72.一种液晶显示器,其系具有一种液晶,其中一种其中电压未被施加至该液晶之无电场的朝向状态以及一种用于显示的显示朝向状态系彼此不同,该显示器系包括:用以转变至该显示朝向状态之电压施加机构,其中该电压施加机构之电压値是10V或是较低的。73.一种液晶显示器,其系具有一种液晶,其中一种其中电压未被施加至该液晶之无电场的朝向状态以及一种用于显示的显示朝向状态系彼此不同,其中该显示器系不具有用以转变至该显示朝向状态之额外的功能。74.如申请专利范围第73项之液晶显示器,其中转变至该显示朝向状态系藉由正常的显示而发生。75.如申请专利范围第72项之液晶显示器,其中该液晶显示器是OCB类型的液晶显示器。76.如申请专利范围第72项之液晶显示器,其系具有一个用以转变至该显示朝向状态的核心。77.如申请专利范围第76项之液晶显示器,其中该核心是一个由该柱间隔物而来的转变核心。78.如申请专利范围第76项之液晶显示器,其中该核心是一个空间物体之复合的主体。79.一种用于一液晶显示元件的基板,该液晶显示元件包含一个空间物体被形成于其上,其中该空间物体是一个由复数个空间物体所构成之复合的主体。80.如申请专利范围第79项之用于该液晶显示元件的基板,其中该空间物体的至少一部分系作用为一个柱间隔物。81.如申请专利范围第79项之用于该液晶显示元件的基板,其中该基板系已经被平坦化。82.如申请专利范围第79项之用于该液晶显示元件的基板,其中平面形状的该空间物体系具有异向性。83.如申请专利范围第79项之用于该液晶显示元件的基板,其中该空间物体系对于每个像素被形成。84.如申请专利范围第79项之用于该液晶显示元件的基板,其中一个凹面的部分系被形成在对应于该等空间物体的基板之部分之一上。85.如申请专利范围第79项之用于该液晶显示元件的基板,其中用以形成该凹面的部分之机构是绝缘体的移除机构。86.如申请专利范围第79项之用于该液晶显示元件的基板,其中一个凸面的部分系被形成在对应于该等空间物体的基板之部分之一上。87.如申请专利范围第79项之用于该液晶显示元件的基板,其中用以形成该凸面的部分之机构是滤色器的重叠。88.一种液晶显示元件,其系包括至少一基板以及一液晶层,其中该基板已经受到对齐处理在复数个对齐处理的方向上,并且该液晶层的液晶系根据该对齐处理的方向而具有平行的对齐。89.如申请专利范围第88项之液晶显示元件,其中该复数个对齐处理的方向系彼此差异大致90度。90.如申请专利范围第88项之液晶显示元件,其中该复数个对齐处理的方向系存在于一个像素中。91.如申请专利范围第88项之液晶显示元件,其中对于每个像素之该复数个对齐处理的方向是不同的。92.如申请专利范围第88项之液晶显示元件,其中在该复数个对齐处理的方向上之对齐处理是一种光对齐处理。93.如申请专利范围第88项之液晶显示元件,其系包括一偏振镜,其中该偏振镜的偏振轴系相对于该复数个对齐处理的方向而倾斜在45度的角度之下。94.如申请专利范围第88项之液晶显示元件,其中该元件是OCB类型的液晶显示元件。95.一种液晶显示元件,其系包括一种液晶,该液晶在无电压的情况下系处于第一朝向状态并且在显示电压下系处于第二朝向状态而且在该等第一与第二朝向状态之间具有一个能障、以及用以施加一个电压至该液晶的电压施加机构,其中该液晶系部分地包含一个处于第三朝向状态的区域,其中存在于该等第二与第三朝向状态之间的能障系小于在无电压的情况下存在于该等第一与第二朝向状态之间的能障。96.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态是一种在该无电压的情况下之固定的状态。97.如申请专利范围第96项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态系藉由执行局部的对齐处理于一对该液晶被夹设在其间的基板之至少一个基板之上而获得的。98.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态系为一种在该无电压的情况下被保存在该等第一与第二朝向状态之间的转变之暂态状态。99.如申请专利范围第98项之液晶显示元件,其中该暂态状态系为一种从该第二朝向状态至该第一朝向状态的转变之暂态状态。100.如申请专利范围第99项之液晶显示元件,其系包括一对该液晶被夹设在其间的基板以及一个不完全的围绕主体,该不完全的围绕主体系由一个被形成在该基板之内部表面上的空间物体所构成,其系完全围绕一个三维的区域,使得其环绕在一个平行于该基板的平面中,并且部分地具有一个并不围绕该三维的区域之缺少部分,其中该暂态状态是由该不完全的围绕主体所保存。101.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态是在无电压的情况下被保留之第二朝向状态的至少一部分。102.如申请专利范围第99项之液晶显示元件,其中该第二朝向状态之至少一部分系藉由该存在于该液晶中之空间物体的液晶分子朝向能力而被保留。103.如申请专利范围第99项之液晶显示元件,其中该第二朝向状态之至少一部分系藉由存在于该液晶中的网络结构而被保存。104.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其系包括用以藉由一个电压的施加来改变液晶的朝向状态从该第一朝向状态至该第二朝向状态之转变机构。105.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中处于该第三朝向状态的区域系大致相同于朝向转变发生的部分,其中该第一朝向状态系首先改变至该第二朝向状态。106.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中该液晶显示元件是OCB类型的液晶显示元件。107.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态是一种扭转的状态。108.如申请专利范围第107项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态之扭转的角度是90度或是更大的。109.如申请专利范围第107项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态之扭转的角度是大致为180度。110.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态是一种弯曲朝向状态。111.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态的区域系被遮罩。112.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中处于该第三朝向状态中的区域系被形成在显示像素之外。113.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中处于该第三朝向状态中的区域系被形成在一个黑色的矩阵上。114.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其系包括用以施加一个电压至该处于该第三朝向状态中的区域之电压施加机构。115.如申请专利范围第95项之液晶显示元件,其中该等基板中之一是一个具有一储存电容器之主动矩阵基板,并且该处于该第三朝向状态中的区域系被形成在该储存电容器的一个电极上。116.如申请专利范围第114项之液晶显示元件,其中该处于该第三朝向状态中的区域系被形成在该像素电极上。117.一种液晶显示元件,其系包括一被设置在一对相对的基板之间的液晶层以及一个不完全的围绕主体,该不完全的围绕主体系由一个被形成在该基板之内部表面上的空间物体所构成,其系完全围绕一个三维的区域,使得其环绕在一个平行于该基板的平面中,并且部分地具有一个并不围绕该三维的区域之缺少部分。118.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体之高度系超过该液晶层的厚度之一半。119.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体之高度系大致等于该液晶层的厚度。120.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体是一个保持该液晶层的厚度之柱间隔物。121.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该由该不完全的围绕主体所围绕之三维的区域系藉由至少该缺少部分而连接至一个并未由该不完全的围绕主体所围绕之区域。122.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该三维的区域之至少三个方向系由该不完全的围绕主体所围绕。123.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体之投影到该基板的表面之形状是一种具有一间隙的入口形状。124.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体之投影到该基板的表面之形状是大致U形。125.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体是由复数个聚集在该对基板之间的珠间隔物所构成。126.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体是由一个圆柱形的主体所构成,该圆柱形的主体在其周边壁中具有一个贯穿孔以及一个缺口部分的其中之一。127.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该三维的区域之直径系五倍于该液晶层的厚度或是略小的。128.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该三维的区域之直径系不大于该液晶层的厚度。129.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该三维的区域之直径系25m或是略小的。130.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中由该不完全的围绕主体所围绕之一部分的尺寸是5m或是略小的。131.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体系具有特征为其中该液晶层的液晶分子系平行于该不完全的围绕主体之一壁而朝向的。132.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体是黑色的,因而不透射任何光线。133.如申请专利范围第117项之液晶显示元件,其中该不完全的围绕主体之一外部周边表面系从其基底部分朝向其顶端部分向内倾斜。134.如申请专利范围第99项之液晶显示元件,其中该第三朝向状态系藉由在该第二朝向状态中关断一个显示电压而被产生。135.如申请专利范围第134项之液晶显示元件,其中该基板系具有一个像素,并且在该像素中该处于第三朝向状态之区域系被产生之机率系为5%或是更大的。136.如申请专利范围第99项之液晶显示元件,其中该第三朝向区域系在室温下被保留超过二十四小时。137.一种用于制造一液晶显示元件之方法,该液晶显示元件系包括一种液晶系在无电压的情况下处于一第一朝向状态并且在显示电压的情况下处于一第二朝向状态,并且具有一个能障存在于该第一与第二朝向状态之间、用以施加一个电压至该液晶之电压施加机构、以及一个被设置在该液晶中并且具有液晶分子朝向能力的空间物体,其中该液晶系在该无电压的情形下部分地包含一个包括至少一部分的该第二朝向状态之区域,其系包括:加热该液晶以具有等向的相位,并且在施加一个电压至该液晶下,逐渐地冷却该加热后的液晶,藉此形成包括至少一部分在该空间物体周围的第二朝向状态之区域。138.一种用于制造一液晶显示元件之方法,该液晶显示元件系包括一种液晶系在无电压的情况下处于一第一朝向状态并且在显示电压的情况下处于一第二朝向状态,并且具有一个能障存在于该第一与第二朝向状态之间、以及用以施加一个电压至该液晶之电压施加机构,其中该液晶系部分地包含一个处于第三朝向状态的区域,其中在该无电压的情况下,一个存在于该第二与第三朝向状态之间的能障系小于一个存在于该第一与第二朝向状态之间的能障,其系包括:当施加该显示电压至该液晶之际,在该液晶中形成一种微细网络的结构,以藉此以网络的结构来形成该处于第三朝向状态的区域。139.一种液晶显示元件,其系夹设一种液晶在基板之间,其系包括保持一个预设的空隙在该等基板之间的柱间隔物,该等柱间隔物系包含被形成在一显示区域之外的柱间隔物、以及用以在其中在该显示区域之外的柱间隔物被形成的区域内调整该基板的高度之机构。140.如申请专利范围第139项之液晶显示元件,其中该用以调整该基板的高度之机构是一个虚拟的图样之形成。141.如申请专利范围第139项之液晶显示元件,其中被形成在该显示区域之外的柱间隔物之密度系低于在该显示区域中的柱间隔物之密度。142.如申请专利范围第139项之液晶显示元件,其中一个凸面的部分系被形成在该其中该显示区域之外的柱间隔物被形成的区域内。143.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构是用以施加一个横向电场之机构。144.如申请专利范围第143项之液晶显示元件,其中该横向电场系至少包含一个具有一相对于该研磨方向而向右的成分之向右倾斜的区域、以及一个具有一相对于该研磨方向而向左的成分之向左倾斜的区域。145.如申请专利范围第143项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系在一个转变电压正被施加的期间被形成。146.如申请专利范围第143项之液晶显示元件,其中该横向电场是一个介于一条闸极线以及一个像素电极之间的横向电场。147.如申请专利范围第143项之液晶显示元件,其中该横向电场是一个介于一条源极线以及一个像素电极之间的横向电场。148.如申请专利范围第143项之液晶显示元件,其中一个介于用以产生该横向电场的构件之间的间隙系具有一种锯齿形结构。149.如申请专利范围第143项之液晶显示元件,其中一个介于用以产生该横向电场的构件之间的间隙系为4至20m。150.一种液晶显示元件,其系包括一被设置在一对相对的基板之间的液晶层,其中一条源极线、一条闸极线、以及一个像素电极系被形成该等基板的其中之一基板上,并且一个相对的电极系被形成在另一个基板上,其中该像素电极之相邻的边缘部分以及该源极与闸极线中之一条线系彼此作用为具有一段以平面视图观看之预设的间隙。151.如申请专利范围第150项之液晶显示元件,其中该彼此作用之相邻的边缘部分是锯齿形的。152.一种用于驱动一液晶显示元件之方法,其系包括一介于一对相对的基板之间的液晶层,其中一条源极线、一条闸极线、以及一个像素电极系被形成该等基板的其中之一基板上,并且一个相对的电极系被形成在另一个基板上,并且一具有一朝向方向局部地为不同于其它的区域之朝向方向的不同的朝向方向区域系藉由一个横向电场被产生,其系包括在大致所有的期间施加一个具有特定正负号之间闸极电压至该闸极线,并且在一个周期期间施加一个具有相反于该闸极电压的正负号之电压至该源极线以及一个具有相同于该闸极电压的正负号之电压至该相反的电极。153.如申请专利范围第152项之方法,其中一个具有用于正常驱动的扫描波形之电压系被施加至该闸极线。154.一种用于驱动一液晶显示元件之方法,其系包括一介于一对相对的基板之间的液晶层,其中源极线、闸极线、以及一个像素电极系被形成该等基板的其中之一基板上,并且一个相对的电极系被形成在另一个基板上,并且一具有一朝向方向局部地为不同于其它的区域之朝向方向的不同的朝向方向区域系藉由一个横向电场被产生,其系包括交替地施加不同的电压至相邻的源极线。155.一种用于制造一液晶显示元件之方法,其系包括形成一具有一朝向方向局部地为不同于其它的区域之朝向方向的不同的朝向方向区域在一液晶显示元件中,该液晶显示元件系包括至少一个基板以及一液晶层。156.如申请专利范围第155项之方法,其中该不同的朝向方向区域系藉由研磨被形成。157.如申请专利范围第156项之方法,其中在研磨中的一个偏斜角度是30度或是更小的。158.如申请专利范围第41项之液晶显示元件,其中一个转变电压系持续地在一个区域上从该转变核心被施加至该像素电极。159.如申请专利范围第41项之液晶显示元件,其中该像素电极是像素结构的最上方层。160.如申请专利范围第43项之液晶显示元件,其中该储存电容器电极以及该像素电极系彼此重叠。161.如申请专利范围第150项之液晶显示元件,其中该等彼此作用之相邻的边缘部分是凸面的。162.如申请专利范围第161项之液晶显示元件,其中该像素电极与该闸极线之相邻的边缘部分系彼此作用的。163.如申请专利范围第58项之液晶显示元件,其中在一个于该局部地朝向的区域中之基板表面的附近之液晶分子的朝向方向系随着其远离该局部地朝向的区域而逐渐地改变,以提供该液晶连续的朝向。164.如申请专利范围第58项之液晶显示元件,其中该空间物体具有一个基底部分大于一个尖端部分,并且具有一个侧表面系具有一30度或是更大的倾斜角度。165.如申请专利范围第58项之液晶显示元件,其中该空间物体具有一个基底部分大于一个尖端部分,并且具有一个侧表面系具有一大致90度的倾斜角度。166.如申请专利范围第58项之液晶显示元件,其中该空间物体系具有一个基底部分小于一个尖端部分。167.如申请专利范围第60项之液晶显示元件,其中较靠近该存在于该局部地朝向的区域中之空间物体的液晶之朝向系藉由该空间物体的液晶朝向能力而决定的,并且在远离该空间物体的部分中之液晶的朝向系藉由研磨而决定的。168.如申请专利范围第156项之方法,其中该不同的朝向方向区域之尺寸系藉由改变一研磨布的推进深度来控制的。169.如申请专利范围第156项之方法,其中在该研磨中的偏斜角度是15度或是更大的。170.如申请专利范围第156项之方法,其中在该研磨中的偏斜角度是小于90度。171.如申请专利范围第156项之方法,其中一个用于该研磨之滚筒的抛光毛系被植入,使得其系相对于该抛光的纹路表面倾斜。172.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为该基板的一表面之倾斜的结构。173.如申请专利范围第172项之液晶显示元件,其中该倾斜的结构系藉由一对齐层的厚度之改变而被形成的。174.如申请专利范围第172项之液晶显示元件,其中该倾斜的结构之倾斜角度是0.2度或是更大的。175.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域是一个垂直朝向的区域。176.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该用以形成该不同的朝向方向区域之机构系为藉由该空间物体之研磨的遮蔽。177.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系具有20度或是更大的预倾斜。178.如申请专利范围第1项之液晶显示元件,其中该不同的朝向方向区域系具有40度或是更大的预倾斜。图式简单说明:图1是概要地显示一个根据本发明之第一实施例的第一个例子之测试单元的结构之剖面图;图2是制造图1的测试单元之剖面图;图3是制造图1的测试单元之剖面图;图4是显示一光罩的平面图;图5是显示图1的基板之研磨方向的图;图6是概要地显示一个根据本发明之第一实施例的第二个例子之测试单元的结构之剖面图;图7是显示一光罩的平面图;图8是概要地显示一个根据本发明之第一实施例的第三个例子之测试单元的结构之剖面图;图9是显示用于制造图8的测试单元之制程的剖面图;图10是显示一遮罩的平面图;图11是显示一个根据本发明之第一实施例的第四个例子之液晶显示元件的结构之剖面图;图12是显示图11的液晶显示元件之个别的光学元件之布置方向的平面图;图13是显示图11的液晶显示元件之前表面的电压透射率的特征之图形;图14是显示一种习知的OCB模式之液晶显示元件的结构之剖面图;图15是显示图1的测试单元之下方基板的突起之布置的平面图;图16是显示图6的测试单元之下方基板处所设置的凹槽之布置的平面图;图17是显示图8的测试单元之下方基板的对齐处理状态之平面图;图18是显示一个根据本发明之第一实施例的第六个例子之液晶显示元件之个别的光学元件之布置方向的平面图;图19是显示一个根据本发明之第二实施例的液晶显示元件之结构的平面图;图20是在图19的箭头XX-XX之方向上的剖面图;图21是显示图19之复合的柱间隔物之配置的平面图;图22是显示由图21之复合的柱间隔物所提供的对齐处理状态之概念图;图23是概要地显示被设置在一TFT基板之上的凸面的与凹面的部分,以形成该复合的柱间隔物剖面图;图24(a)至24(d)是显示相邻于扭转朝向的液晶分子之液晶分子的行为之图,其中图24(a)是显示其中电压未被施加的状态之剖面图,图24(b)是显示其中电压未被施加的状态之平面图,图24(c)是显示其中一个预设的电压系被施加的状态之剖面图,并且图24(d)是显示其中一个电压系被施加的状态之平面图;图25是显示一个被用于转变图19的液晶显示元件之转变电压的波形图;图26是显示转变核心的发生率相对于一个转变电压之改变图;图27(a)至27(i)是显示该复合的柱间隔物之一种变型的平面图;图28是概要地显示其中该复合的柱间隔物被形成在一个像素电极之上的变型之平面图;图29是显示其中该复合的柱间隔物藉由利用滤色器的步骤而被形成在滤色器基板之上的变型之剖面图;图30是显示其中一个凹面的部分被形成在滤色器基板之上以防止该复合的柱间隔物与滤色器基板相邻之变型的剖面图;图31是概要地显示根据本发明之第四实施例的液晶显示元件之结构的剖面图;图32是概要地显示根据本发明之第六实施例的液晶显示装置之结构的方块图;图33是概要地显示根据本发明之第七实施例的液晶显示装置之结构的方块图;图34(a)与34(b)是显示一个液晶显示元件之液晶的稳定性情况之概念图,其中图34(a)是显示该液晶的基本的稳定性情况之图,并且图34(b)是显示该液晶在平行的朝向以及在扭转的朝向之下的稳定性情况之图;图35(a)至35(c)是概要地显示一个其中扭转朝向的区域系局部地被形成之液晶显示元件的射流至弯曲的转变之过程的概念图,其中图35(a)是显示一种其中两个在相反的方向上之扭转朝向的区域系彼此接触之情形的图,图35(b)是显示一种其中两个扭转朝向的区域之一区域的扭转角度是90度之情形的图,图35(c)是显示一种其中两个扭转朝向的区域之一区域的扭转角度是90度或更大之情形的图,并且图35(d)是显示一种其中两个在相同方向上之扭转朝向的区域彼此接触之情形的图;图36(a)与36(b)是概要地显示根据本发明之第八实施例的液晶显示元件之一基板的对齐处理之平面图,其中图36(a)是显示在第一次研磨之后的状态图,并且图36(b)是显示在第二次研磨之后的状态图;图37是概要地显示根据本发明之第九实施例的液晶显示元件之一基板的对齐处理之平面图;图38是概要地显示根据本发明之第十实施例的液晶显示元件之一基板的对齐处理之平面图;图39是概要地显示根据本发明之第十二实施例的液晶显示元件之主动矩阵基板的结构之平面图;图40是概要地显示根据本发明之第十四实施例的液晶显示元件之一基板的对齐处理之平面图;图41是显示一个根据本发明之第十五实施例的液晶显示元件之结构的剖面图;图42(a)与42(b)分别是概要地显示一个根据本发明之第十六实施例的液晶显示元件之结构的剖面图以及平面图;图43是显示一个被施加至图42的液晶显示元件之驱动电压的波形图;图44(a)与44(b)分别是概要地显示一个根据本发明之第十七实施例的液晶显示元件之结构的剖面图以及平面图;图45是显示一个被施加至图44的液晶显示元件之驱动电压的波形图;图46是显示一种根据本发明之第十八实施例的用于制造一液晶显示元件之方法图;图47是显示根据本发明之第十八实施例的液晶显示元件之一基板的对齐处理状态之平面图;图48是概要地显示一个根据本发明之第十九实施例的液晶显示元件之结构的平面图;图49是图48的箭头XXXXIX-XXXXIX方向上的剖面图;图50是概要地显示一个根据本发明之第二十实施例的液晶显示元件之结构的平面图;图51是图50的箭头XXXXXI-XXXXXI方向上的剖面图;图52是显示根据本发明之第二十实施例的第七个例子的液晶显示元件之下方基板的结构之立体图;图53是显示一个被施加至图50的液晶显示元件之转变电压的波形图;图54(a)与54(b)是显示一液晶从射流转变至弯曲朝向的图,其中图54(a)是显示射流朝向的液晶显示元件之剖面图,并且图54(b)是显示弯曲朝向的液晶显示元件之剖面图;图55是显示一液晶的180度之扭转的朝向之剖面图;图56是显示一种其中一不完全的围绕主体之外部周边面系被倾斜的结构之下方基板的立体图;图57是显示根据本发明之第二十实施例的第八个例子的液晶显示元件之下方基板的结构之立体图;图58是显示根据本发明之第二十实施例的第九个例子的液晶显示元件之下方基板的结构之立体图;图59(a)至59(c)是显示根据本发明之第二十实施例的第十个例子的液晶显示元件之下方基板的结构之图,其中图59(a)是显示一种其中珠间隔物系以部分开放的环形配置聚集的配置之平面图,图59(b)是显示一种其中珠间隔物系以具有一空隙在相邻的两个间隔物之间的大致环形配置而被设置的配置之平面图,并且图59(c)是显示一种其中珠间隔物系以封闭的环形配置聚集的配置之平面图;图60(a)至60(c)是显示根据本发明之第二十实施例的第十一个例子的液晶显示元件之下方基板的结构之图,图60(a)是显示一种其中该具有一个贯穿孔作为缺少部分之不完全的围绕主体系被设置的配置之立体图,图60(b)是显示一种其中该具有一个开口朝上之缺口部分作为该缺少部分之不完全的围绕主体系被设置的配置之立体图,并且图60(c)是显示一种其中该具有一个开口朝下之缺口部分作为该缺少部分之不完全的围绕主体系被设置的配置之立体图;图61是对于每个像素概要地显示根据本发明之第二十三实施例的第十二个例子的液晶显示元件之结构的剖面图;图62是对于每个像素概要地显示根据本发明之第二十三实施例的第十二个例子的液晶显示元件之结构的平面图;图63是对于每个像素概要地显示根据本发明之第二十三实施例的第十三个例子的液晶显示元件之结构的平面图;图64是对于每个像素概要地显示根据本发明之第二十三实施例的第十四个例子的液晶显示元件之结构的平面图;图65是显示根据本发明之第二十四实施例的第十六个例子的液晶显示元件之基本的结构之剖面图;图66是概要地显示图65的液晶显示元件之下方基板的对齐处理之平面图;图67是用以解说研磨布的推进深度之图;图68是概要地显示根据本发明之第二十四实施例的第十七个例子的液晶显示元件之下方基板的对齐处理之平面图;图69是显示根据本发明之第二十四实施例的第十八个例子的被用于制造液晶显示元件之研磨滚筒的配置图;图70是概要地显示根据本发明之第二十四实施例的第十九个例子的液晶显示元件之下方基板非研磨的区域中之液晶的朝向之平面图;图71是概要地显示根据本发明之第二十四实施例的第二十个例子的液晶显示元件之液晶的朝向状态之平面图;并且图72(a)与72(b)是概要地显示根据本实施例的第二十五个例子之液晶显示元件的下方基板之液晶的朝向之概念图,其中图72(a)是一平面图,并且图72(b)是在图72(a)的箭头XXXXXXXIIb-XXXXXXXIIb方向上的剖面图。 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