发明名称 化学放大型正性阻剂组成物
摘要 本发明提供一种化学放大型正性阻剂组成物,其具有平衡良好之解析度及感光度,因SEM电子射线照射造成的收缩减至最低,该组成物包含一种树脂,该树脂具有衍生自下式(1)表示之未饱和单体之聚合单位,其本身不溶于硷,但因酸的作用而变成硷可溶;以及酸产生剂:其中R1及R2分别独立地表示氢或甲基。
申请公布号 TW573227 申请公布日期 2004.01.21
申请号 TW091102327 申请日期 2002.02.08
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 上谷保则;藤岛浩晃;荒木香
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路八十号六楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路八十号六楼
主权项 1.一种化学放大型正性阻剂组成物,系包括一种树脂,该树脂具有衍生自下式(1)表示之未饱和单体之聚合单位,以及该树脂本身不溶于硷,但因酸的作用而变成硷可溶;以及一种酸产生剂,该酸产生剂包括盐化合物、有机卤素化合物、化合物及磺酸盐化合物:其中R1及R2分别独立地表示氢或甲基;其中,以该树脂及该酸产生剂总重为基准,该树脂含量为80至99.9重量%,及该酸产生剂含量为0.1至20重量%。2.如申请专利范围第1项之化学放大型正性阻剂组成物,其中,该树脂含有衍生自式(1)表示之单体之聚合单位含量为5至50莫耳%。3.如申请专利范围第1项之化学放大型正性阻剂组成物,其中,该树脂含有一种具有可藉酸作用割裂之基之聚合单位。4.如申请专利范围第3项之化学放大型正性阻剂组成物,其中,该具有可藉酸作用割裂之基之聚合单位系衍生自2-烷基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯。5.如申请专利范围第4项之化学放大型正性阻剂组成物,其中,该衍生自2-烷基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯之聚合单位系衍生自2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯或2-乙基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯。6.如申请专利范围第1项之化学放大型正性阻剂组成物,复包括一种硷性化合物作为捕捉剂。7.如申请专利范围第6项之化学放大型正性阻剂组成物,其中,该硷性化合物含量相对于每100重量份之树脂为0.001至0.1重量份之范围。
地址 日本