发明名称 化学机械研磨之组合物
摘要 本发明揭露一种研磨组合物,其包括氧化铝/二氧化矽复合物为基底之金属氧化物粉末、去离子水和添加物,该金属氧化物粉末包括氧化铝/二氧化矽复合物作为主要组成份。这种研磨组合物具有优良的移除速率并且造成研磨后的细微刮痕减少,适合用于元件晶圆制程的全面平坦化。
申请公布号 TW573000 申请公布日期 2004.01.21
申请号 TW089112062 申请日期 2000.06.20
申请人 第一毛织股份有限公司 发明人 李吉成;金硕珍;李在锡;张斗远
分类号 C09K3/14;H01L21/304 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种研磨组合物,包括氧化铝/二氧化矽复合物为 基底的金属氧化物粉末、去离子水及一添加物,该 金属氧化物粉末包括氧化铝/二氧化矽复合物作为 主要的组成份,该添加物系择自氢氧化钾、氢氧化 铵、R4NOH、磷酸、醋酸、盐酸、氢氟酸、过氧化 氢、碘化钾、硝酸、亚铁氰酸钾(K2Fe(CN)6)、重铬 酸钠、次氯酸钾、硝酸铁、氢氧胺、二甲基亚 、草酸、丙二酸、琥珀酸、酸氢钾、2-咯酮 及其混合物所组成的族群中。2.如申请专利范围 第1项所述之研磨组合物,其中该氧化铝/二氧化矽 复合物是由氯化铝和氯化矽藉由其烟燻法而制备 。3.如申请专利范围第1项所述之研磨组合物,其中 该氧化铝/二氧化矽复合物金属氧化物粉末包含67 15%的氧化铝和3315%的二氧化矽。4.如申请专利范 围第1项所述之研磨组合物,其中该氧化铝/二氧化 矽复合物金属氧化物粉末,具有从20到200m2/g的比表 面面积范围。5.如申请专利范围第1项所述之研磨 组合物,其中该氧化铝/二氧化矽复合物在分散状 态中具有10-500奈米之粒径。6.如申请专利范围第1 项所述之研磨组合物,其中该氧化铝/二氧化矽复 合物金属氧化物粉末,是以1-50%重量百分比的量存 在,以组合物的总重量为基准。7.如申请专利范围 第1项所述之研磨组合物,其中该氧化铝/二氧化矽 复合物金属氧化物粉末,包括一单独的氧化铝/二 氧化矽复合物,或是与至少一种择自二氧化矽、氧 化铝、氧化铈、氧化锆及二氧化钛所组成的族群 中而组合。
地址 韩国