| 主权项 |
1.一种下式(I)之多偶氮基化合物或其盐, 式中, A代表具有1至3个磺基之基或具有1至2个选自磺 基及羧基之亲水基及视需要具有低级烷基或低级 烷氧基之苯基; B代表-NHCO-或-N=N-; n代表0或1,惟当B代表-N=N-时,n代表0; R1至R6相同或不同及代表氢、低级烷基或低级烷氧 基,惟当n代表0时,R1至R4代表氢或低级烷基; R7代表氢或磺基; 当B为-N=N-时,D代表-N=N-,当B为-NHCO-时,则D代表-NHCO- 、-N=N-或-NH-;及 E代表视需要具有1至3个选自羟基、胺基、硝基、 磺基、羧基、低级烷基及低级烷氧基的基团之苯 基。2.如申请专利范围第1项之多偶氮基化合物或 其盐,其中B代表-NHCO-,及n代表0。3.如申请专利范围 第1项之多偶氮基化合物或其盐,其中B代表-NHCO-,及 n代表1。4.如申请专利范围第1项之多偶氮基化合 物或其盐,其中B代表-N=N-。5.如申请专利范围第1项 之多偶氮基化合物或其盐,其中A代表具有2至3个磺 基之基或具有1至2个选自磺基及羧基之亲水基 之苯基。6.如申请专利范围第1项之多偶氮基化合 物或其盐,其中A代表4-磺苯基、1,5-二磺基-2-基 、6,8-二磺基-2-基、4,8-二磺基-2-基、5,7-二磺 基-2-基或3,6-二磺基-2-基。7.如申请专利范围 第1项之多偶氮基化合物或其盐,其中R1至R6代表氢 或甲基。8.如申请专利范围第1项之多偶氮基化合 物或其盐,其中R7代表氢。9.如申请专利范围第1项 之多偶氮基化合物或其盐,其中E代表4-羟苯基或4- 胺苯基。10.一种染料系偏光膜,该偏光膜系利用添 加如申请专利范围第1项之多偶氮基化合物或其盐 于偏光膜基质中而制得。11.如申请专利范围第10 项之染料系偏光膜,其中该偏光膜基质系由聚乙烯 醇系树脂制造之聚合物膜。 |
