| 主权项 |
1.一种光学系统,包括: 一光学脉冲源,用以产生一输入光学脉冲流; 一可控制之光学延迟结构,与该光学脉冲源连结, 该光学延迟结构提供复数输出光学脉冲流,各该输 出光学脉冲流具有一相对于该输入光学脉冲流之 可控制之延迟时间;以及 一控制装置,用以控制各该输出光学脉冲流之该可 控制之延迟时间。2.如申请专利范围第1项所述之 光学系统,另包括一阵列之一光学孔径,各该光学 孔径系用以接收来自该等输出光学脉冲流之一输 出光学脉冲流。3.如申请专利范围第2项所述之光 学系统,其中该阵列之该光学孔径包括一阵列之可 操纵光学孔径。4.如申请专利范围第2项所述之光 学系统,另包括一波前补偿器,该波前补偿器被与 该阵列之光学孔径整合。5.如申请专利范围第1项 所述之光学系统,其中该光学脉冲源包括: 一光学脉冲产生器,用以产生一未被调变之光学脉 冲流; 一资讯讯号源;以及 一光学调变器,利用来自该资讯讯号源之一资讯讯 号来调变该未被调变之光学脉冲流,以产生该输入 光学脉冲流。6.如申请专利范围第5项所述之光学 系统,其中该光学脉冲产生器包括一雷射光源。7. 如申请专利范围第1项所述之光学系统,其中该可 控制之光学延迟结构包括: 一层电光活性材质,具有一最近端及一末端; 装置,用以施加跨越该层电光活性材质之电压; 装置,用以耦合该输入光学脉冲流至该层电光材质 之该最近端;以及 复数分接头输出耦合器,该等分接头之输出耦合器 沿直线方向从该层电光活性材质之该最近端配置 至该末端; 其中该控制装置系用以控制该施加电压装置。8. 如申请专利范围第7项所述之光学系统,其中该层 电光活性材质包括一光学容积基底结构,具有一特 定厚度,该容积基底结构具有一上内部反射表面及 一下内部反射表面,其中该输入光学脉冲流藉由持 续从从一内部反射表面反射至其他表面而从该最 近端传递至该末端,且各该输出光学脉冲流之该可 控制之延迟时间与该特定厚度、各该分接头输出 耦合器间之距离呈正比关系。9.如申请专利范围 第7项所述之光学系统,其中该层电光活性材质包 括一导波电光装置,具有一上表面及一下表面,通 常彼此平行,其中该输入光学脉冲流通常从该最近 端以平行于该表面之方向传递至该末端,且各该输 出光学脉冲流之该可控制延迟时间正比于各该分 接头输出耦合器间之距离。10.如申请专利范围第7 项所述之光学系统,其中该施加电压装置包括: 一第一电极,位于该层电光材质之一第一侧;以及 一第二电极,位于该层电光材质之一相对该第一侧 之第二侧; 其中该控制装置包括一与该第一电极及该第二电 极连结之电压源。11.如申请专利范围第7项所述之 光学系统,其中该施加电压装置包括: 一第一复数电极,位于该层电光材质之一第一侧; 以及 一第二复数电极,位于该层电光材质之一相对该第 一侧之第二侧,在该第二复数电极之各该电极有一 对应电极在该第一复数电极以形成一电极对; 其中该控制装置包括复数个别可控制之电压源,该 等电压源之各该电压源与一或多个电极对连结。 12.如申请专利范围第7项所述之光学系统,其中该 等分接头之输出耦合器之各该分接头输出耦合器 与相邻分接头之输出耦合器之距离相等。13.如申 请专利范围第7项所述之光学系统,其中该等分接 头之输出耦合器包括复数输出光栅。14.如申请专 利范围第7项所述之光学系统,其中该等分接头之 输出耦合器之各该分接头输出耦合器具有一绕射 效率,该绕射效率会随各该分接头输出耦合器离该 最近端之距离而增加。15.如申请专利范围第1项所 述之光学系统,其中该可控制光学延迟结构包括: 一层电光活性材质,具有一最近端、一末端、一引 导缘及一尾缘,其中具有该最近端及该末端之一第 一线垂直于具有该引导缘及该尾缘之一第二线; 施加装置,用以施加跨越该层电光活性材质之电压 ; 耦合装置,用以耦合该输入光学脉冲流至该层电光 材质之该最近端;以及 复数分接头输出耦合器,该等分接头输出耦合器沿 直线方向从该层电光活性材质之该最近端配置至 该末端,该等分接头输出耦合器之各该分接头输出 耦合器从该电光活性材质之该最近端逐渐配置至 该末端,且各该分接头输出耦合器沿直线方向从该 层电光活性材质之该引导缘配置至该尾缘; 其中该控制装置系用以控制该施加电压装置。16. 如申请专利范围第15项所述之光学系统,其中该层 电光活性材质包括一光学容积基底结构,具有一特 定厚度,该容积基底结构具有一上内部反射表面及 一下内部反射表面,其中该输入光学脉冲流被分成 复数平行之输入光学脉冲流,各该平行之输入光学 脉冲流藉由持续从从一内部反射表面反射至其他 表面而从该最近端传递至该末端,且各该输出光学 脉冲流之该可控制之延迟时间与该特定厚度、各 该分接头输出耦合器间之距离呈正比关系。17.如 申请专利范围第15项所述之光学系统,其中该层电 光活性材质包括一导波电光装置,具有一上表面及 一下表面,通常彼此平行,其中该输入光学脉冲流 被分成复数平行之输入光学脉冲流,各该平行之输 入光学脉冲流通常从该最近端以平行于该表面之 方向传递至该末端,且各该输出光学脉冲流之该可 控制延迟时间正比于各该分接头输出耦合器间之 距离。18.如申请专利范围第15项所述之光学系统, 其中该施加电压装置包括: 复数电极线,位于该层电光材质之一第一侧;以及 一公用电极,位于该层电光材质之一相对该第一侧 之第二侧; 其中该复数电极线通常平行且相邻于该分接头之 输出耦合器,且其中该控制装置包括连结于各该电 极线与该公用电极之间之电压源。19.如申请专利 范围第15项所述之光学系统,其中该施加电压装置 包括: 一矩阵之电极,位于该层电光材质之一第一侧,该 等电极在二垂直方向彼此隔离;以及 一公用电极,位于该层电光材质之一相对该第一侧 之第二侧; 其中该控制装置包括连结于该矩阵之电极之各该 电极与该公用电极之间之电压源。20.如申请专利 范围第15项所述之光学系统,其中各该分接头输出 耦合器与相邻分接头之输出耦合器之距离相等,且 各该线之分接头之输出耦合器与相邻线之分接头 之输出耦合器之距离相等。21.如申请专利范围第 15项所述之光学系统,其中各该分接头输出耦合器 包括一输出光栅。22.如申请专利范围第15项所述 之光学系统,其中各该分接头输出耦合器具有一绕 射效率,该绕射效率会随各该分接头输出耦合器离 该最近端之距离而增加。23.一种产生具有可控制 之延迟时间之多重光学脉冲流之方法,包括以下步 骤: 提供一光学脉冲流; 耦合该光学脉冲流至一可控制之光学延迟结构,该 光学延迟结构提供复数延迟之光学脉冲流,各该延 迟之光学脉冲流具有一相对于该输入光学脉冲流 之可控制之延迟时间;以及 控制各该延迟之光学脉冲流之延迟。24.如申请专 利范围第23项所述之方法,其中该耦合该光学脉冲 流至一可控制之光学延迟结构之步骤包括: 耦合该光学脉冲流至一层电光活性材质,该层电光 活性材质在一纵向方向具有多重输出埠; 沿该纵向方向导引该光学脉冲流;以及 耦合部分该光学脉冲流在每一输出埠离开该层,以 于每一光学埠产生该延迟之光学脉冲流; 且该控制各该延迟之光学脉冲流之延迟之步骤包 括: 施加跨越该层电光活性材质之电压;以及 控制该电压以控制提供至各该延迟光学脉冲流之 一延迟量。25.如申请专利范围第24项所述之方法, 其中该层电光活性材质包括一光学容积基底结构, 具有一特定厚度,该容积基底结构具有一上内部反 射表面及一下内部反射表面,其中该输入光学脉冲 流藉由持续于该内部反射表面间反射而于该层之 该纵向方向传递。26.如申请专利范围第24项所述 之方法,其中该层电光活性材质包括一导波电光装 置具有一上表面及一下表面,通常彼此平行,其中 该输入光学脉冲流通常以平行于该表面之该纵向 方向传递。27.如申请专利范围第24项所述之方法, 其中该多重输出埠之各该输出埠与相邻输出埠之 距离相等。28.如申请专利范围第23项所述之方法, 其中该耦合该光学脉冲流至一可控制光学延迟结 构之步骤包括: 将该光学脉冲流分成复数平行光学脉冲流; 耦合该光学脉冲流至一层电光活性材质,该层电光 活性材质具有侧向配置且彼此平行于跨越该层之 复数线输出埠,且各该线输出埠具有多重输出埠沿 一纵向方向配置; 导引该平行光学脉冲流至该层电光活性材质,各该 平行光学脉冲流被导引至一相对应线之输出埠;以 及 耦合部分各该平行光学脉冲流在该相对应线之输 出埠之每一输出埠离开该层,以于每一光学埠产生 该延迟之光学脉冲流; 且该控制各该延迟之光学脉冲流之延迟之步骤包 括: 施加跨越该层电光活性材质之电压,各该电压对应 一线输出埠且在该相对应线之输出埠之附近被施 加;以及 控制该电压以控制提供至各该延迟光学脉冲流之 一延迟量。29.如申请专利范围第28项所述之方法, 其中该层电光活性材质包括一光学容积基底结构, 具有一特定厚度,该容积基底结构具有一上内部反 射表面及一下内部反射表面,其中该光学脉冲流藉 由持续于该内部反射表面间反射而于该层之该纵 向方向传递。30.如申请专利范围第28项所述之方 法,其中该层电光活性材质包括一导波电光层具有 一上表面及一下表面,通常彼此平行,其中该光学 脉冲流通常以平行于该表面之该纵向方向传递。 31.一种光束操纵装置,包括: 至少一层电光活性材质,具有一最近端及一末端; 施加装置,用以施加跨越该至少一层电光活性材质 之电压; 耦合装置,用以耦合该输入光学讯号至该至少一层 电光材质之该最近端;以及 复数分接头输出耦合器,用以提供光束输出,该等 分接头之输出耦合器沿直线方向从该至少一层电 光活性材质之该最近端配置至该末端,该等分接头 之各该分接头输出耦合器从该电光活性材质之该 最近端逐渐配置至该末端;以及 一阵列之光学孔径,各该光学孔径接收从该等分接 头之输出耦合器之一相对应分接头之输出耦合器 所输出之一光束输出。32.如申请专利范围第31项 所述之光束操纵装置,其中用以施加跨越该至少一 层电光活性材质之电压之装置该包括: 一第一电极,位于该层电光材质之一第一侧; 一第二电极,位于该至少一层电光材质之一相对该 第一侧之第二侧;以及 一可控制电压源,连结于该第一电极及该第二电极 ,当该电压源被控制以产生一电压时,该电压源于 该第一电极及该第二电极间产生一可控制电场。 33.如申请专利范围第31项所述之光束操纵装置,其 中用以施加跨越该至少一层电光活性材质之电压 之该装置包括: 复数第一电极区域,位于该至少一层电光材质之一 第一侧; 复数第二电极区域,位于该至少一层电光材质之一 相对该第一侧之第二侧;以及 复数可控制之电压源,该等电压源与该等第一电极 区域之一相对应第一电极区域及该等第二电极区 域之一相对应第二电极区域连结,当该电压源被控 制以产生一电压时,各该电压源于该相对应第一电 极区域及该相对应第二电极区域间产生一可控制 电场。34.如申请专利范围第31项所述之光束操纵 装置,其中用以耦合该光学讯号至该至少一层电光 材质之该最近端之该装置包括一输入光栅,位于该 至少一层之该最近端。35.如申请专利范围第31项 所述之光束操纵装置,其中用以耦合该光学讯号至 该至少一层电光材质之该最近端之该装置包括一 光学棱镜,位于该至少一层之该最近端。36.如申请 专利范围第31项所述之光束操纵装置,另包括用以 补偿固定延迟之装置,该装置位于该分接头输出耦 合器与该阵列之光学孔径间,该装置施加一固定延 迟至各该光束输出,该固定延迟与各该分接头输出 耦合器至该最近端之距离成反比关系。37.如申请 专利范围第36项所述之光束操纵装置,其中该补偿 装置包括一光学棱镜。38.如申请专利范围第31项 所述之光束操纵装置,其中该分接头之输出耦合器 配置于该至少一层电光活性材质之几条耦合器线, 各该耦合器线包括复数分接头输出耦合器在直线 方向从该最近端至该末端,且该耦合器线在该至少 一层中彼此平行,且其中用以耦合该光学讯号至该 至少一层电光材质之该最近端之该装置将该光学 讯号耦合至各该耦合器线。39.如申请专利范围第 31项所述之光束操纵装置,其中该至少一层之电光 活性材质包括至少一层液晶材质。40.一种光束操 纵方法,包括以下步骤: 耦合一输入光束至一至少一层电光活性材质,在该 至少一层之一侧之一纵向方向配置有复数光学输 出埠,该等光学输出埠之各该光学输出埠距离从该 至少一层之一最近端逐渐配置至该至少一层之一 末端; 沿该等光学输出埠之纵向方向导引该输入光束至 该至少一层; 耦合部分输入光束在每一输出埠离开该至少一层, 来自各该输出埠之该延迟之光束具有与该输入光 束相关之一可控制延迟; 施加一跨越该至少一层之电场; 控制该电场以控制来自各该输出埠之该延迟之光 束之该延迟;以及 从各该输出埠导引该延迟之光束至一光束操纵阵 列。41.如申请专利范围第40项所述之光束操纵方 法,其中该施加一电场之步骤包括: 提供一第一电极于该至少一层之一第一侧; 提供一第二电极于该至少一层之一第二侧,该第二 侧相对于该第一侧;以及 连结一电压源至该第一电极及该第二电极; 其中该控制该电场之步骤包括控制该电压源。42. 如申请专利范围第40项所述之光束操纵方法,其中 该施加一电场之步骤包括: 提供复数第一电极于该至少一层之一第一侧; 提供复数第二电极于该至少一层之一第二侧,该第 二侧相对于该第一侧; 连结一电压源至该第一电极及该第二电极;以及 连结复数电压源至该等第一电极及第二电极,各该 电压源与该等第一电极之一相对应一第一电极及 该等第二电极之一相对应一第二电极连结; 其中该控制该电场之步骤包括个别控制该电压源 。43.如申请专利范围第40项所述之光束操纵方法, 其中该导引各该延迟之光束至一光束操纵阵列包 括: 施加一固定延迟至来自各该输出埠之该延迟之光 束,该固定延迟与该输出埠至该至少一层之该最近 端之距离成反比关系;以及 以个别固定延迟导引来自各该输出埠之该延迟光 束至该光束操纵阵列。图式简单说明: 第1图系习知光学真实时间延迟光束操纵系统之方 块图; 第2图系本发明光学真实时间延迟光束操纵系统之 方块图; 第3图绘示本发明一实施例具有容积或光学之基底 结构。 第4图绘示本发明一实施例对三组输出提供个别延 迟时间控制; 第5图绘示本发明另一实施例具有固定延迟时间与 相位补偿之导波结构;以及 第6图绘示本发明一实施例为二因次之光束操纵系 统。 |
