发明名称 化学放大正型光阻组成物
摘要 一种化学放大正型光阻组成物,彼具有卓越的对基材之黏着,与良好的乾燥蚀刻抗性;适用于利用ArF、KrF或其类似者的激发器雷射光刻技术;及其中包含树脂(X),其本身不溶于硷但当与酸作用将变得可溶于硷中,且具有由式(I)代表的聚合单位,由式( II)代表的聚合单位及由式(III)代表的聚合单位:其中R1及R3系各自独立代表氢或甲基,R2代表烷基,R4代表氢或羟基,且R5及R6系各自独立代表氢、带有1至3个碳原子的烷基、带有1至3个碳原子的羟烷基、羧基、氰基或由-COOR,代表的基团,其中R7代表醇残基,或R5及R6共同形成由-C(=O)OC(=O)-代表的羧酸酐残基,及源自不饱和二羧酸酐的聚合单位而此二羧酸酐系选自顺丁烯二酸酐及分解乌头酸酐者;及酸产生剂(Y)。
申请公布号 TW573225 申请公布日期 2004.01.21
申请号 TW090103290 申请日期 2001.02.14
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 上谷保则;藤岛浩晃;高田佳幸
分类号 G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种化学放大正型光阻组成物,包含 树脂(X),其本身不溶于硷但在酸作用下将可溶于硷 中,其具有 (a)式(I)所示聚合单位,系源自(甲基)丙烯酸2—烷基 —2—金刚烷酯, (b)式(II)所示聚合单位,系源自(甲基)丙烯酸3—羟 基—1—金刚烷酯, (c)式(III)所示聚合单位,系源自脂环族烯烃, 其中R1及R3系各自独立代表氢或甲基,R2代表具有1 至4个碳原子之烷基,R4代表氢或羟基,且R5及R6系各 自独立代表氢、带有1至3个碳原子的烷基、带有1 至3个碳原子的羟烷基、羧基、氰基或由—COOR7代 表的基团,其中R7代表醇残基,或R5及R6共同形成由 —C(=O)OC(=O)—代表的羧酸酐残基,及 (d)一聚合单位,源自选自顺丁烯二酸酐及分解乌头 酸酐之不饱和二羧酸酐;及 酸产生剂(Y), 其中树脂(X)的含量以树脂(X)与酸产生剂(Y)之总量 计为80至99.9重量%,而酸产生剂(Y)的含量以树脂(X) 与酸产生剂(Y)之总量计为0.1至20重量%,且该树脂(X) 系由共聚合下列单体而制得,这些单体包含藉以得 到式(I)聚合单位之(甲基)丙烯酸2—烷基—2—金刚 烷酯;藉以得到式(II)聚合单位之(甲基)丙烯酸3— 羟基—1—金刚烷酯;藉以得到式(III)聚合单位之脂 环族烯烃;及选自顺丁烯二酸酐及分解乌头酸酐之 不饱和二羧酸酐;其中(甲基)丙烯酸2—烷基—2— 金刚烷酯之用量在5至60%mol,(甲基)丙烯酸3—羟基 —1—金刚烷酯之用量在5至50%mol,且脂环族烯烃与 不饱和二羧酸酐之总用量在10至90%mol,基于共聚合 所用所有单体的总量计。2.如申请专利范围第1项 之化学放大正型光阻组成物,其中在式(I)中的R2为 甲基、乙基、丙基、异丙基及丁基。3.如申请专 利范围第2项之化学放大正型光阻组成物,其中在 式(I)中的R2为乙基。4.如申请专利范围第1项之化 学放大正型光阻组成物,其中式(I)中的R1及式(II)中 的R3中至少一者为氢。5.如申请专利范围第1项之 化学放大正型光阻组成物,其中(甲基)丙烯酸2—烷 基—2—金刚烷酯、脂环族烯烃与不饱和二羧酸酐 之总量以共聚合所用所有单体的总量计为40%mol或 以上。6.如申请专利范围第1项之化学放大正型光 阻组成物,其中藉以得到式(II)聚合单位之(甲基)丙 烯酸3—羟基—1—金刚烷酯之量以共聚合所用所 有单体的总量计为5—40%mol。
地址 日本
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