发明名称 稳定剂混合物
摘要 一种稳定剂混合物,包含成份(A),(B)和(C)其中成份(A)为,例如一式(A-1)化合物其中 A1是氢或C1-C4烷基, A2是一直接键或C1-C10烷撑,和 n1是一从2至50的数;成份(B)是一低分子量立体位阻胺化合物,包含一式(I)或(II)的群基;和成份(C)是一高分子量的立体位阻胺化合物,包含一式(I)群基;但其限制为成份 (A),(B)和 (C)是不同的。
申请公布号 TW572952 申请公布日期 2004.01.21
申请号 TW090110963 申请日期 2001.05.08
申请人 汽巴特用化学品控股公司 发明人 芳寇斯 古古玛斯
分类号 C08K5/3435;C08K5/3462;C08K5/3492;C08K5/3445 主分类号 C08K5/3435
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路二段一一二号九楼
主权项 2.如申请专利范围第1项之稳定剂混合物,其中E1,E12 ,E16,E18,E23,E25,E29,R6,R13,R16,R18,R30及R32是氢或甲基,及 E1和R6另外是C1-C8烷氧基。3.如申请专利范围第1项 之稳定剂混合物,其中成份(A)是一式(A-1-a)化合物, 其中n1是一从2至20的数,或一式(A-2-a)或(A-2-b)化合 物,其中n2和n2*是一从2至20的数,成份(B)是一式(B-1-b )化合物,其中E1是氢,及成份(C)是一式(C-1-a)化合物, 其中b1是一从2至20的数,及R6是氢,或一式(C-1-b)化合 物,其中R6是氢或丙氧基,及b1是一从2至20的数,或一 式(C-1-d)化合物,其中R6是氢或甲基,和b1是一从2至20 的数,或一式(C-2-a)化合物,其中R13是甲基,或一式(C- 3-a)化合物,其中R16是氢,及b2是一从2至20的数,或一 式(C-4-a)化合物,其中R18是氢,及b3是一从1至20的数, 或一产物(C-6-a)。4.如申请专利范围第1项之稳定剂 混合物,其中成份(A)是一式(A-1-a)化合物,其中n1是 一从2至20的数,或一式(A-2-a)或(A-2-b)化合物,其中n2 和n2*是一从2至20的数,成份(B)是一式(B-1-b)化合物, 其中E1是氢,及成份(C)是一式(C-1-a)化合物,其中b1是 一从2至20的数,及R6是氢。5.如申请专利范围第1项 之稳定剂混合物,其中 成份(A)是一式(A-1-a)化合物,成份(B)是一式(B-1-b)化 合物,其中E1是氢,及成份(C)是一式(C-1-a)化合物,其 中R6是氢;或 成份(A)是一式(A-1-a)化合物,成份(B)是一式(B-1-b)化 合物,其中E1是辛氧基,及成份(C)是一式(C-1-a)化合 物,其中R6是氢;或 成份(A)是一式(A-1-a)化合物,成份(B)是一式(B-3-a)化 合物,其中E12是氢,及成份(C)是一式(C-1-a)化合物,其 中R6是氢;或 成份(A)是一式(A-1-a)化合物,成份(B)是一式(B-10-a)化 合物,其中E29是氢,及成份(C)是一式(C-1-a)化合物,其 中R6是氢;或 成份(A)是一式(A-1-a)化合物,成份(B)是一式(B-1-b)化 合物,其中E1是甲基,及成份(C)是一式(C-2-a)化合物, 其中R13是甲基。6.一种组成物,包括一对光、热或 氧化降解是敏感之合成聚合物,及一如申请专利范 围第1项之稳定剂混合物,其中成份(A),(B)和(C)每一 个的存在量为0.005至5%(相对于合成聚合物的重量 计算)。7.如申请专利范围第6项之组成物,其中该 合成聚合物是聚烯烃。8.如申请专利范围第6项之 组成物,其中该合成聚合物是聚乙烯,聚丙烯,聚乙 烯共聚物或聚丙烯共聚物。9.一种稳定一合成聚 合物抵抗光、热或氧化导致降解的方法,包括在该 合成聚合物中加入一如申请专利范围第1项之稳定 剂混合物,其中成份(A),(B)和(C)每一个的存在量为0. 005至5%(相对于合成聚合物的重量计算)。10.一种稳 定剂混合物,包含 (1)一下式化合物 其中n200及n201的和是一从2至20的数,及 (2)一下式化合物 成份(1)和成份(2)的重量比例为10:1至1:100。11.一种 组成物,包括一对光.热或氧化降解是敏感之合成 聚合物,及一如申请专利范围第10项之稳定剂混合 物,其中成份(1)和(2)的每一个存在量为0.005至5%(相 对于该合成聚合物的重量计算)。12.一种稳定一合 成聚合物抵抗光.热或氧化导致降解的方法,包括 在该合成聚合物中加入一如申请专利范围第10项 之稳定剂混合物,其中成份(1)和(2)的每一个存在量 为0.005至5%(相对于该合成聚合物的重量计算)。
地址 瑞士