发明名称 | 半导体装置 | ||
摘要 | 一种半导体装置,抑制同一半导体装置内形成的电路间产生的噪音的影响。积层结构的半导体装置1A在同一半导体衬底内具有多个内部包括多个电阻元件、晶体管及电容元件等的电路单元2A~2C,在电路单元2A为噪音源的情况下,通过在该电路单元2A的上方设置主要由金属形成的BOX,可抑制该噪音对其他基本单元2B、2C的影响。 | ||
申请公布号 | CN1469475A | 申请公布日期 | 2004.01.21 |
申请号 | CN03148454.9 | 申请日期 | 2003.06.30 |
申请人 | 三洋电机株式会社 | 发明人 | 椎名正弘 |
分类号 | H01L27/06 | 主分类号 | H01L27/06 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李贵亮;杨梧 |
主权项 | 1、一种半导体装置,其特征在于,包括形成于半导体衬底上的电路单元、和由所述半导体衬底上形成的下层金属和上层金属及形成于它们之间的层间绝缘膜包围所述电路单元的屏蔽体。 | ||
地址 | 日本大阪府 |