| 发明名称 | 卤化银照相材料 | ||
| 摘要 | 一种卤化银照相材料，这种材料包括至少一个感光卤化银乳剂层，和至少一个处在支承体上的非感光亲水胶体层。单位表面面积的银涂敷量在1.0至2.2g/m<SUP>2</SUP>范围内。该卤化银乳剂层含有其中纵横尺寸比至少为5的片状卤化银晶粒至少占全部卤化银晶粒投影面积的50％的卤化银晶粒。卤化银晶粒生长在作为晶核的纯净的溴化银晶粒或氯溴化银晶粒上，以便在生长结束时，形成碘化银含量为0.1至3.20mol％的碘溴化银或氯碘溴化银。这种具有高感光度和高清晰度的X-射线感光材料可以与非增感荧光屏一起使用。 | ||
| 申请公布号 | CN1135433C | 申请公布日期 | 2004.01.21 |
| 申请号 | CN97125982.8 | 申请日期 | 1997.10.15 |
| 申请人 | 富士写真菲林株式会社 | 发明人 | 端善久;宫下和晃;山之内淳一 |
| 分类号 | G03C1/035;G03C5/16 | 主分类号 | G03C1/035 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张元忠 |
| 主权项 | 1.一种卤化银照相材料，这种材料包括至少一个感光卤化银乳剂层和至少一个处在支承体上的非感光亲水胶体层，其特征在于：单位表面面积的银涂敷量在1.0至2.2g/m2范围内，该卤化银乳剂层含有卤化银晶粒，其中纵横尺寸比至少为5的片状卤化银晶粒至少占全部卤化银晶粒投影面积的50％，卤化银晶粒生长在作为晶核的纯净的溴化银晶粒或氯溴化银晶粒上，以便在生长结束时，形成碘化银含量为0.1至3.20mol％的碘溴化银或氯碘溴化银；其中在该感光材料曝光时使用具有波长范围为300至500nm照度峰的荧光屏。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||