发明名称 | 净化室 | ||
摘要 | 提供一种在半导体装置的制造过程中能完全防止化学物质的扩散,同时为了防止化学污染的需要能进行局部的空调管理的净化室。将净化室1分成具有独立的空调系统的多个区段,在配置了漏出化学物质的制造装置6a的第2净化室1b中,采取使除去了化学烟雾的空气在天花板间壁室4中循环的空调方式。在配置了输送装置7a、7b和保管装置8a、8b等的第1净化室1a中,采取将化学游离空气只供给必要的局部区域的空调方式。 | ||
申请公布号 | CN1135331C | 申请公布日期 | 2004.01.21 |
申请号 | CN97115442.2 | 申请日期 | 1997.07.21 |
申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 长舟平;福本隼明;渋谷博司;江崎浩治 |
分类号 | F24F3/16 | 主分类号 | F24F3/16 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 姜郛厚;叶恺东 |
主权项 | 1.一种净化室,其特征在于备有:第1和第2净化室,分别具有由空调机供给对外界空气进行了预定的温度和湿度以及预定的除尘水平控制后的空气的天花板间壁室;设置了化学物质过滤器的无化学物质空气供给装置;配置了高性能过滤器的天花板过滤部;上述天花板间壁室的空气被所述天花板过滤部净化后供给的作业区;位于上述作业区的格栅台面下面分别有配置了动力供给设备及环保设备的实用区;以及使上述作业区的空气经上述实用区向上述天花板间壁室进行循环的循环通道;上述第1和第2净化室单独进行空调管理,并且对上述作业区内的无化学物质区,通过配管,直接供给从上述无化学物质空气供给装置供给的无化学物质空气。 | ||
地址 | 日本东京都 |