发明名称 | 半导体集成电路 | ||
摘要 | 本发明的课题是,提供具有能够保证晶片加工后已完成的门图形(门形状)有均匀的值的基本集合元件的半导体集成电路。在半导体衬底(未图示)上形成p型有源区1和n型有源区2。然后,在该p型有源区1和n型有源区2上形成3条门布线3、4、5,在p型有源区1上,在与n型有源区2相向侧的相反一侧(图中的p型有源区1的上侧)形成用于设置接触孔6、7的突出部。在该突出部所形成的接触孔6在门布线3与门布线4之间形成。另外,在突出部所形成的接触孔7在门布线4与门布线5之间形成。 | ||
申请公布号 | CN1469474A | 申请公布日期 | 2004.01.21 |
申请号 | CN03107978.4 | 申请日期 | 2003.03.28 |
申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 澁谷宏治 |
分类号 | H01L27/04;H01L27/10 | 主分类号 | H01L27/04 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘宗杰;叶恺东 |
主权项 | 1.一种半导体集成电路,其特征在于:具有单元基本方式的基本集合元件,该单元基本方式的基本集合元件包括:在半导体衬底上所形成的第1有源区和第2有源区;以及在上述第1有源区上和上述第2有源区上通过、在规定的方向延伸、至少在上述第1有源区上和上述第2有源区上以均匀的间隔形成的多条门布线,上述第1有源区和上述第2有源区的至少一方具有向上述规定方向突出的突出部,另外,该单元基本方式的基本集合元件还包括在上述突出部形成的接触孔。 | ||
地址 | 日本东京都 |