| 摘要 |
本发明提供一种能够以更简单且高精密度的方式，来解析密度不均多层膜内的粒子状物的分布状态及界面状态之崭新式密度不均多层膜之解析方法。其中具备有：藉由采用遵循显示出粒子状物的分布状态之吻合参数来表示X射线散射曲线之散射函数，在与实测X射线散射曲线的测定条件相同条件之下，算出模拟X射线散射曲线之步骤；以及一边变更吻合参数，一边进行模拟X射线散射曲线及实测X射线散射曲线的吻合之步骤；其中，于模拟X射线散射曲线及实测X射线散射曲线一致之际，将此时的吻合参数之值，设定为密度不均多层膜内的粒子状物的分布状态，藉此来解析密度不均多层膜内的粒子状物的分布状态，其特征为：采用导入有转移机率之函数来作为散射函数，而该转移机率系以多层膜的严密解为起始状态及终止状态。 |
