发明名称 薄膜制造装置
摘要 本发明之课题,在于提供能够达成晶圆面内之分布均匀性的薄膜制造装置。本发明之解决手段,在于将该装置作成:于气体混合室底面之周缘部设置混合气体之供输口24a,用以从气体混合室24供输混合气体与喷淋头25,而使混合气体能从喷淋头上面之周缘部朝向中心部流动的构造;又作成:设置用以排出成膜室3内之排气的排气口32于较成膜室侧壁之成膜时载物台31之位置为下方部分之处,使成膜室内之排气朝成膜室之侧壁方向而由排气口排出之构造。另以昇降自如的方式形成载物台31,并作成喷淋头25与基板5间之距离为可调式者。
申请公布号 TW200401341 申请公布日期 2004.01.16
申请号 TW092107402 申请日期 2003.04.01
申请人 爱发科股份有限公司 发明人 增田健;沼雅彦;山田贵一;内田宽人;植松正纪;邹红罡
分类号 H01L21/205;C23C16/44 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本