发明名称 Verfahren zur Bildung von Metallkolloidmustern
摘要 Das Verfahren zur Herstellung von Metallkolloidmustern beziehungsweise -bildern ist ein Verfahren zur Bildung von Metallkolloidmustern beziehungsweise -bildern auf einem Substrat durch Bilden einer photoempfindlichen Schicht auf einem Substrat durch Auftragen einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung, enthaltend ein organisches Lösungsmittel und ein Polysilan, löslich in dem organischen Lösungsmittel, auf das Substrat, Ausbilden eines latenten Bildes der Muster durch selektives Belichten der photoempfindlichen Schicht, Inkontaktbringen einer Metallkolloid-enthaltenden Lösung mit der photoempfindlichen Schicht und Ausbilden von Mustern des Metallkolloids durch Adsorbieren des Metallkolloids in den belichteten Teilen.
申请公布号 DE10327257(A1) 申请公布日期 2004.01.15
申请号 DE20031027257 申请日期 2003.06.17
申请人 NIPPON PAINT CO., LTD. 发明人 WATANABE, EMI;OKA, TAKESHI;IWAKOSHI, AYAKO
分类号 G02B5/20;C03C17/06;C23C18/30;G03F7/00;G03F7/075;G03F7/38;G03F7/40;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G02B5/20
代理机构 代理人
主权项
地址