发明名称 Vorrichtung und Verfahren zum elektrochemischen behandeln eines Substrats bei reduzierter Metallkorrosion
摘要 Eine Prozessanlage zur elektrochemischen Behandlung eines Substrats ist so ausgebildet, um die Sauerstoffkonzentration und/oder die Schwefeldioxidkonzentration in der Nähe des Substrats zu reduzieren, so dass eine Korrosion von Kupfer verringert werden kann. In einer Ausführungsform wird eine im Wesentlichen inerte Atmosphäre innerhalb der Prozessanlage, die einen Galvanisierungsreaktor enthält, errichtet, indem ein kontinuierlicher Inertgasstrom und/oder indem eine Abdeckung bereitgestellt wird, die einen Gasaustausch mit der Umgebungsatmosphäre reduziert. Die im Wesentlichen inerte Gasatmosphäre kann ferner während weiterer Prozessschritte, die bei der elektrochemischen Behandlung des Substrats einschließlich erforderlicher Transportschritte zwischen den einzelnen Prozessschritten beteiligt sind, aufrechterhalten werden.
申请公布号 DE10228998(A1) 申请公布日期 2004.01.15
申请号 DE2002128998 申请日期 2002.06.28
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 发明人 PREUSSE, AXEL
分类号 C25D5/00;C25D7/12;H01L21/288;(IPC1-7):H01L21/288;C25D3/38;C25D19/00 主分类号 C25D5/00
代理机构 代理人
主权项
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