处理基底的方法和装置

摘要

为了达到在基底上有均匀的涂层，本发明涉及的装置和方法是用于对基底进行涂层的，其中基底固定在一个基底座(5)上，从而使得待涂基底表面(15)裸露着，并使基底随基底座旋转，还有一个封盖(20)可以固定在基底座上，该封盖与基底座共同形成一个封闭的用于基底的腔室。

主权项

1.对基底(13)进行涂层的装置(1)，它有一个基底座(5)，基底就夹持在这盘座上，从而使待涂的基底表面(15)裸露着并指向下；它还有一个使基底座(5)转动的装置，其特征是有一个可以固定在基底座(5)上的封盖(20)，它与基底座(5)一起形成一个密封的安放基底(13)的腔室(36)。