发明名称 光调制装置及光调制装置的制造方法
摘要 提供一种光调制装置及其制造方法。该光调制装置备有:以留出规定间隙的状态配置的第一基板及第二基板;配置在这些基板之间,将像素隔开的隔壁构件;配置在该像素中的液体及多个带电颗粒;以及配置在该像素上的第一电极及第二电极。其制造方法包括:在上述第二基板上形成上述隔壁构件的工序;将上述液体和上述带电颗粒配置在由上述第二基板和上述隔壁构件形成的凹部中的工序;将上述开孔构件压在上述隔壁构件上,将上述带电颗粒封装在上述凹部内的工序;以及配置闭塞构件以将上述开孔构件的孔部闭塞的工序。如果采用该方法,则在制造阶段(像素密封时)能防止带电颗粒从像素流出。
申请公布号 CN1467556A 申请公布日期 2004.01.14
申请号 CN03142511.9 申请日期 2003.06.10
申请人 佳能株式会社 发明人 浮贺谷信贵
分类号 G02F1/167;G02F1/01 主分类号 G02F1/167
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 付建军
主权项 1.一种光调制装置,备有:以留出了规定间隙的状态配置的第一基板及第二基板;配置在这些基板之间,将像素隔开的隔壁构件;配置在该像素中的液体及多个带电颗粒;以及配置在该像素上的第一电极及第二电极,基于将电压加在这些电极之间,使上述带电颗粒移动,进行图像显示或光切换,该光调制装置的特征在于:上述第一基板由靠近上述隔壁构件配置、有不使上述带电颗粒通过而只有液体才能通过的孔部的开孔构件;以及将该孔部闭塞的闭塞部件构成。
地址 日本东京
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