发明名称 光布线电路制造方法及具有该光布线电路的光布线基板
摘要 一种光布线基板的制造方法,用根据图像信息通过空间光调制元件调制的光束进行图像曝光的曝光装置,通过所述光束(UV)对在作为光布线基板材料的芯层上涂布的感光材料(光致抗蚀剂)的规定区域进行曝光并图形化形成蚀刻掩模。与在芯层的端部上形成的倾斜面对应的区域,通过根据倾斜面的倾斜形状控制曝光量的光束进行曝光并图形化,将蚀刻掩模的端部作为斜面结构。一旦通过该蚀刻掩模对芯层进行蚀刻加工,在芯层的端部就进行与蚀刻掩模的膜厚成比例地加工,从而形成倾斜面。根据本发明,通过无掩模曝光易于形成构成光波导路的芯层的端部上设置的倾斜面形状。
申请公布号 CN1467517A 申请公布日期 2004.01.14
申请号 CN03141105.3 申请日期 2003.06.06
申请人 富士胶片株式会社 发明人 中谷大辅;藤井武;冈崎洋二;永野和彦;石川弘美
分类号 G02B6/12;G02B6/13;G03F7/00 主分类号 G02B6/12
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1.一种光布线电路的制造方法,是利用光波导路构成电路的光布线电路的制造方法,其特征在于:具有以下工序,即,利用根据图像信息通过空间光调制元件调制的光束进行图像曝光的曝光装置,通过所述光束对用于形成所述光波导路的光学材料的规定区域进行曝光并形成图形。
地址 日本神奈川县