| 主权项 |
1.一种具有抗反射薄膜的光学元件,其包含一塑胶基板及一可经由真空蒸镀而获得的抗反射薄膜,其中该抗反射薄膜的至少一层为一包含无机物质及有机物质之混杂层;其中,该无机物质为单独SiO2.或SiO2及Al2O3之混合物、或至少选自Nb2O5.Ta2O5.TiO2.ZrO2及Y2O3其中一种;又其中在该混杂层中的有机物质为下列一般式(1)之化合物:其中x及z每个可各自独立地为整数0或更大;y为整数1或更大;R1至R6每个可各自独立地为氢原子或选自于甲基、具有1至15个碳原子而包含环氧基的烃基、胺基、(甲基)丙烯酸基、羟基、具有1至15个碳原子而包含羰基之烃基、乙烯基、硫醇基、具有1至15个碳原子之含碳-碳三键的烃基、具有1至15个碳原子之烷氧基矽烷基团、具有1至15个碳原子的烷基胺基及具有5至8个碳原子的环烷基之有机基团。2.如申请专利范围第1项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中该混杂层可藉由离子辅助制程而获得。3.如申请专利范围第1或2项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中该经改质的矽酮油包含一种或多种具有下列一般式(a)至(d)之任何一式的结构之化合物:(a)具有被有机基团导入聚矽氧烷侧链之经改质的矽酮油:(b)具有被有机基团导入聚矽氧烷二边末端之经改质的矽酮油:(c)具有被有机基团导入聚矽氧烷一边末端之经改质的矽酮油;(d)具有被有机基团导入聚矽氧烷侧链及二边末端之经改质的矽酮油:在一般式(a)至(d)中,m及n每个可各自独立地为整数0或更大;及在一般式(c)中,R可为具有1至10个碳原子之烷基、具有1至10个碳原子之烯基或具有1至10个碳原子之炔基。4.如申请专利范围第3项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中该有机基团可选自于胺基、环氧基、羧基、羟基、含羟基而具有1至15个碳原子的烃基、甲基丙烯基、巯基、酚基、具有1至15个碳原子的烷氧基、具有1至15个碳原子而携带一个或多个列在上述的取代基之烃基及其组合。5.如申请专利范围第3项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中该有机基团可选自于具有1至15个碳原子的烷基、具有2至15个碳原子的酯基、甲基苯乙烯基、具有2至15重覆单元之聚(C2-15伸烷基)醚基、具有16至20个碳原子的饱和或不饱和脂肪酸酯及具有1至15个碳原子而经一个或多个氟原子取代之烃基。6.如申请专利范围第1或2项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中该经改质的矽酮油之数量平分子量从250至6,000。7.如申请专利范围第1或2项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中R1至R6至少一个为脱水山梨糖醇残基或脱水山梨糖醇酯残基。8.如申请专利范围第1或2项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中该一般式(I)之化合物可为聚乙二醇单丁基单缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚氧乙烯,-双-3-胺基丙基醚、聚乙二醇单月桂酸山梨糖醇酯、聚乙二醇单油酸山梨糖醇酯或聚氧乙烯单丙烯酸酯。9.如申请专利范围第1或2项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中该一般式(I)之化合物的数量平均分子量从250至6,000。10.如申请专利范围第1或2项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中在该薄膜中的混杂层之有机物质含量从0.02重量%至70重量%。11.如申请专利范围第1或2项之具有抗反射薄膜的光学元件,其具有一厚度1至5奈米的底层而包含至少一种选自于镍(Ni)、银(Ag)、铂(Pt)、铌(Nb)及钛(Ti)的金属,且形成在塑胶基板与抗反射薄膜之间。12.如申请专利范围第1或2项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中该抗反射薄膜如此装配使得一层混杂层最接近该塑胶基板,而另一层可与第一混杂层相同或不同的混杂层则在离其最远处。13.如申请专利范围第12项之具有抗反射薄膜的光学元件,其中该抗反射薄膜包含下列数层,其以此顺序在该塑胶基板上形成:第1层:SiO2+Al2O3+有机物质之混杂层(层厚10至180奈米);第2层:Nb2O5层(层厚1至25奈米);第3层:SiO2+Al2O3层(层厚10至50奈米)、第4层:Nb2O5层(层厚10至55奈米)、第5层:SiO2+Al2O3层(层厚10至50奈米)、第6层:Nb2O5层(层厚10至120奈米)、及第7层:SiO2+Al2O3+有机物质之混杂层(层厚70至100奈米)。14.一种具有抗反射薄膜的光学元件之形成方法,其中如申请专利范围第1至13项中任何一项之该抗反射薄膜可经由真空蒸镀而形成。15.如申请专利范围第14项之方法,其中该混杂层的至少一层可使用离子辅助制程来形成。 |
