主权项 |
1.一种基板的处理方法,系以产生电浆的处理反应室与待机室构成在减压下处理基板的处理部,使用在待机室附设真空隔绝室的处理装置,其特征为:令该处理反应室内为减压状态,使电浆产生而处理基板间系提高该待机室内的压力到电浆不产生的压力。2.如申请专利范围第1项所述之基板的处理方法,其中令在该处理反应室内处理基板间的该待机室的压力为200Pa-3000Pa。图式简单说明:图1系实施与本发明有关的处理方法的装置的全体斜视图。图2系说明同处理方法于制程顺序的图。图3系说明同处理方法于制程顺序的图。图4系说明同处理方法于制程顺序的图。 |