| 主权项 |
1.一种感放射线性树脂组成物,其特征为含﹝A﹞(a1)不饱和羧酸及/或不饱和羧酸酐、(a2)含环氧基不饱和化合物、(a3)含羟基不饱和化合物与(a4)其他烯烃系不饱和化合物的共聚合物,及含﹝B﹞1,2-苯二叠氮基化合物,其中,﹝B﹞成分的含量对每100重量份﹝A﹞成分为含5~100重量份。2.如申请专利范围第1项之感放射线性树脂组成物,其中﹝A﹞成分系苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟乙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟乙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/甲基丙烯酸-叔-丁酯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟乙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/对-甲氧苯乙烯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟乙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/甲基丙烯酸2-甲基环己酯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟乙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/1,3丁二烯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟乙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/二环﹝2.2.1﹞庚-2-烯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2,3-二羟丙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2,3-二羟丙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/甲基丙烯酸-叔-丁酯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2,3-二羟丙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/对-甲氧苯乙烯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2,3-二羟丙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/甲基丙烯酸2-甲基环己酯共聚合物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2,3-二羟丙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/1,3丁二烯共聚合物、及苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2,3-二羟丙酯/甲基丙烯酸三环﹝5.2.1.02.6﹞癸烷-8-醯酯/二环﹝2.2.1﹞庚-2-烯共聚合物中至少选取一种。3.如申请专利范围第1或第2项之感放射线性树脂组成物,其中感放射线性树脂组成物系用于形成层间绝缘膜。4.一种层间绝缘膜的形成方法,其特征为至少含下述步骤a于基板上形成申请专利范围第3项之感放射线性树脂组成物的涂膜的步骤,b使上述涂膜至少一部份照射放射线的步骤,c显影步骤,d后烧焙步骤。5.一种层间绝缘膜,其特征系由申请专利范围第3项之感放射线性树脂组成物所形成。6.如申请专利范围第1或第2项之感放射线性树脂组成物,其中感放射线性树脂组成物系用于形成微透镜。7.一种微透镜的形成方法,其特征为至少含下述步骤a于基板上形成申请专利范围第6项之感放射线性树脂组成物的涂膜的步骤,b使上述涂膜至少一部份照射放射线的步骤,c显影步骤,d后烧焙步骤。8.一种微透镜,其特征系申请专利范围第6项之感放射线性树脂组成物所形成。 |
